[发明专利]铁电存储器件在审

专利信息
申请号: 201810562910.7 申请日: 2018-06-04
公开(公告)号: CN109037219A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 刘香根 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: H01L27/11507 分类号: H01L27/11507
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 王建国;李琳
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 根据实施例的铁电存储器件包括衬底、顺序地设置在沟槽的内壁上的界面绝缘层和铁电绝缘层,沟槽形成于衬底中。另外,铁电存储器件包括设置在铁电绝缘层上的栅电极层。设置在与沟槽的底表面具有共用表面的界面绝缘层上的部分铁电绝缘层和设置在与沟槽的侧壁表面具有共用表面的界面绝缘层上的部分铁电绝缘层在与沟槽的底表面和侧壁表面垂直的方向上分别具有晶体生长面。
搜索关键词: 铁电绝缘层 铁电存储器件 界面绝缘层 侧壁表面 共用表面 衬底 晶体生长面 沟槽形成 栅电极层 垂直的 内壁
【主权项】:
1.一种铁电存储器件,包括:衬底;界面绝缘层和铁电绝缘层,它们顺序地设置在沟槽的内壁表面上,沟槽形成在衬底中;以及栅电极层,其设置在铁电绝缘层上,其中,设置在与沟槽的底表面具有共用表面的界面绝缘层上的部分铁电绝缘层和设置在与沟槽的侧壁表面具有共用表面的界面绝缘层上的部分铁电绝缘层在与底表面和侧壁表面垂直的方向上分别具有晶体生长面。
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