[发明专利]一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法在审
| 申请号： | 201810528668.1 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN108832009A | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 何昆鹏;张晓星 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/50 | 分类号： | H01L51/50;H01L51/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅;熊贤卿 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，包括下述步骤：制备TFT背板，在TFT背板上制备阳极；在阳极上制备间隔层；在TFT背板上制备像素定义层，且像素定义层覆盖间隔层；图形化像素定义层，在像素定义层上形成缺口以露出间隔层；通过刻蚀液将缺口下方的间隔层刻蚀掉，露出阳极；通过喷墨打印的方式在阳极上形成墨水层。本发明可以提高AMOLED显示面板中阳极表面的洁净程度，减少残留，使得打印发光层更容易铺展均匀，以免AMOLED显示面板显示异常，不会破坏像素定义层表面结构，也不会对像素定义层表面厚度和线宽造成损失。 | ||
| 搜索关键词： | 像素定义层 制备 阳极 间隔层 喷墨打印 背板 表面结构 显示异常 阳极表面 发光层 刻蚀液 墨水层 图形化 刻蚀 线宽 铺展 打印 残留 洁净 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：制备TFT背板，在所述TFT背板上制备阳极；在所述阳极上制备用于隔绝阳极与像素定义层的间隔层；在所述TFT背板上制备像素定义层，且所述像素定义层覆盖所述间隔层；图形化所述像素定义层，在所述像素定义层上形成缺口以露出所述间隔层；通过刻蚀液将所述缺口下方的间隔层刻蚀掉，露出所述阳极；通过喷墨打印的方式在所述阳极上形成墨水层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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