[发明专利]一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法

说明书

本发明提供一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，包括下述步骤：制备TFT背板，在TFT背板上制备阳极；在阳极上制备间隔层；在TFT背板上制备像素定义层，且像素定义层覆盖间隔层；图形化像素定义层，在像素定义层上形成缺口以露出间隔层；通过刻蚀液将缺口下方的间隔层刻蚀掉，露出阳极；通过喷墨打印的方式在阳极上形成墨水层。本发明可以提高AMOLED显示面板中阳极表面的洁净程度，减少残留，使得打印发光层更容易铺展均匀，以免AMOLED显示面板显示异常，不会破坏像素定义层表面结构，也不会对像素定义层表面厚度和线宽造成损失。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法。

背景技术

在蒸镀AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体)技术中，蒸镀材料在像素区的膜厚均匀性好，而IJP-AMOLED(喷墨打印AMOLED)使用亲水性的液态的墨水喷吐成膜，Bank区域(像素区域)的疏水性PDL(Pixel DefineLayer，像素定义层)材料的残留直接影响墨水的铺展，从而导致像素功能异常并最终影响显示效果。例如，如图1所示，1’为TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)背板，2’为平坦层，3’为像素定义层，4’为阳极。如图2所示，30’为图形化后的像素定义层，上面形成有缺口31’，通过缺口31’露出阳极4’，阳极4’上有残留的像素定义层材料32’。如图3所示，在阳极4’上通过喷墨水(墨水材料可以是用于发光的材料)方式形成墨水层5’时，残留的像素定义层材料32’周围会有空白区域41’没有被墨水层5’覆盖，从而会影响AMOLED的显示效果。

因此，良好的墨水铺展性很大程度上决定IJP-AMOLED的产品品质，所以在打印墨水前Bank区域的洁净无残留尤为重要。PDL材料是有机感光材料，Bank区域通过黄光和OVEN制程(烘烤制程)形成，PDL层显影后像素区的PDL材料残留直接影响墨水铺展。现在针对蒸镀AMOLED像素区域的PDL材料残留的对策较多使用PDL黄光制程之后追加一道干刻蚀。但是在IJP-AMOLED的PDL黄光制程之后使用干刻蚀制程会带来以下问题：

1、干刻蚀会破坏PDL表面结构，使PDL失去疏水性，所以在IJP制程中滴下的墨水容易粘附在Bank区域表面，而不是流入Bank区域中。

2、干刻蚀会造成PDL的厚度和线宽一定程度的损失，影响墨水滴入量的确认和像素的开口率。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，可以提高AMOLED显示面板中阳极表面的洁净程度，减少残留，使得打印发光层更容易铺展均匀，以免AMOLED显示面板显示异常，不会破坏像素定义层表面结构，也不会对像素定义层表面厚度和线宽造成损失。

本发明提供的一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，包括下述步骤：

制备TFT背板，在所述TFT背板上制备阳极；

在所述阳极上制备用于隔绝阳极与像素定义层的间隔层；

在所述TFT背板上制备像素定义层，且所述像素定义层覆盖所述间隔层；

图形化所述像素定义层，在所述像素定义层上形成缺口以露出所述间隔层；

通过刻蚀液将所述缺口下方的间隔层刻蚀掉，露出所述阳极；

通过喷墨打印的方式在所述阳极上形成墨水层。

优选地，所述间隔层的厚度范围为300～800埃米。

优选地，所述间隔层为金属膜层，所述阳极为透明电极或者反射电极。

优选地，所述透明电极为一层ITO膜层，所述反射电极包含两层ITO膜层以及夹持在所述两层ITO膜层之间的银金属层。