[发明专利]一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法在审
| 申请号： | 201810528668.1 | 申请日： | 2018-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN108832009A | 公开（公告）日： | 2018-11-16 |
| 发明（设计）人： | 何昆鹏;张晓星 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/50 | 分类号： | H01L51/50;H01L51/00;H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅;熊贤卿 |
| 地址： | 518000 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 像素定义层 制备 阳极 间隔层 喷墨打印 背板 表面结构 显示异常 阳极表面 发光层 刻蚀液 墨水层 图形化 刻蚀 线宽 铺展 打印 残留 洁净 覆盖 | ||
1.一种喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，包括下述步骤：
制备TFT背板，在所述TFT背板上制备阳极；
在所述阳极上制备用于隔绝阳极与像素定义层的间隔层；
在所述TFT背板上制备像素定义层，且所述像素定义层覆盖所述间隔层；
图形化所述像素定义层，在所述像素定义层上形成缺口以露出所述间隔层；
通过刻蚀液将所述缺口下方的间隔层刻蚀掉，露出所述阳极；
通过喷墨打印的方式在所述阳极上形成墨水层。
2.根据权利要求1所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述间隔层的厚度范围为300~800埃米。
3.根据权利要求1所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述间隔层为金属膜层，所述阳极为透明电极或者反射电极。
4.根据权利要求3所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述透明电极为一层ITO膜层，所述反射电极包含两层ITO膜层以及夹持在所述两层ITO膜层之间的银金属层。
5.根据权利要求4所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，在图形化所述像素定义层之后还包括下述步骤：
对所述像素定义层以及所述阳极进行烘烤制程。
6.根据权利要求5所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述间隔层为钼膜层或者铝膜层，通过铝刻蚀液将所述缺口下方的间隔层刻蚀掉。
7.根据权利要求1所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，通过黄光制程图形化所述像素定义层。
8.根据权利要求1所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，所述像素定义层为疏水性的像素定义层。
9.根据权利要求1所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，还包括下述步骤：
在所述TFT背板上制备平坦层，所述像素定义层以及所述阳极均位于所述平坦层上。
10.根据权利要求1所述的喷墨打印AMOLED显示面板的制备方法，其特征在于，通过喷墨打印的方式在所述阳极上形成墨水层，具体为：
通过喷墨打印的方式在所述阳极上依次形成空穴层和发光层；其中，所述空穴层包括空穴注入层和空穴传输层，所述空穴传输层位于所述空穴注入层和所述发光层之间。
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