[发明专利]基板结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201810517023.8 申请日: 2018-05-25
公开(公告)号: CN110536538B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 何崇文 申请(专利权)人: 何崇文
主分类号: H05K1/02 分类号: H05K1/02;H05K1/11;H05K3/40
代理公司: 北京世誉鑫诚专利代理有限公司 11368 代理人: 仲伯煊
地址: 中国台湾台北市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板结构及其制作方法。基板结构包括介电层、第一图案化线路层、至少一第一铜柱、至少一第二铜柱以及第二图案化线路层。第一图案化线路层内埋在介电层中且包括至少一第一接垫与至少一第二接垫。第一图案化线路层的表面切齐于介电层的下表面。第一铜柱内埋在介电层中且位于第一接垫上。第二铜柱内埋在介电层中且位于第二接垫上。第一铜柱的第一剖面宽度大于第二铜柱的第二剖面宽度。第一接垫的第一宽度大于第一铜柱的第一剖面宽度。第二接垫的第二宽度大于第二铜柱的第二剖面宽度。
搜索关键词: 板结 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种基板结构,其特征在于,包括:/n介电层,具有彼此相对的上表面与下表面;/n第一图案化线路层,内埋在所述介电层中,且包括至少一第一接垫与至少一第二接垫,其中所述第一图案化线路层的表面切齐于所述介电层的所述下表面;/n至少一第一铜柱,内埋在所述介电层中,且位于所述至少一第一接垫上;/n至少一第二铜柱,内埋在所述介电层中,且位于所述至少一第二接垫上,其中所述至少一第一铜柱的第一剖面宽度大于所述至少一第二铜柱的第二剖面宽度,而所述至少一第一接垫的第一宽度大于所述至少一第一铜柱的所述第一剖面宽度,且所述至少一第二接垫的第二宽度大于所述至少一第二铜柱的所述第二剖面宽度;以及/n第二图案化线路层,配置在所述介电层的所述上表面上,而所述第二图案化线路层包括至少一第三接垫以及至少一第四接垫。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于何崇文,未经何崇文许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810517023.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top