[发明专利]半导体装置及其形成方法有效

专利信息
申请号: 201810509842.8 申请日: 2018-05-24
公开(公告)号: CN110534525B 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 张峰溢;童宇诚;李甫哲;林盈志 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司;福建省晋华集成电路有限公司
主分类号: H01L27/11565 分类号: H01L27/11565;H01L27/11568
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 陈小雯
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明公开一种半导体装置及其形成方法,该半导体装置包含基底与材料层。基底具有第一区域,材料层则是设置在基底上。材料层包含呈阵列排列的多个第一图案、多个第二图案与两个第三图案,其中,第一图案设置在第一区域,第二图案设置在第一区域的两相对外侧,而第三图案设置在第一区域的另两相对外侧且部分合并于部分的各个第一图案与部分的各个第二图案。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 形成 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,包含:/n基底,具有第一区域;/n材料层,设置在该基底上,该材料层包含呈阵列排列的多个第一图案与多个第二图案,与两个第三图案,其中,该第一图案设置在该第一区域内,该第二图案设置在该第一区域的两相对外侧,且各该第三图案设置在该第一区域的另两相对外侧且部分合并于一部分的各该第一图案与一部分的各该第二图案。/n
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