[发明专利]基板处理设备、旋转式固定座及基板处理方法有效

专利信息
申请号: 201810325087.8 申请日: 2018-04-12
公开(公告)号: CN109727890B 公开(公告)日: 2021-06-18
发明(设计)人: 戴郡良;范纯祥;叶明熙;黄国彬 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/673;H01L21/683;H01L21/02
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 发明一实施例提供一种基板处理设备,包括旋转式固定座以及处理流体供给设备。旋转式固定座包括多个承载件以及旋转驱动机构。承载件耦接至旋转式基座,承载件中的每一者包括销,销具有倾斜部,用以在基板的上缘及销间提供一间隙。旋转驱动机构用以转动旋转式基座。处理流体供给设备是设置在旋转式固定座上。
搜索关键词: 处理 设备 旋转 固定 方法
【主权项】:
1.一种基板处理设备,包括:一旋转式固定座,包括:多个承载件,耦接至一旋转式基座,所述承载件中的每一者包括一销,该销具有一倾斜部,用以在该基板的一上缘及该销间提供一间隙,以及一旋转驱动机构,用以转动该旋转式基座;以及一处理流体供给设备,设置在该旋转式固定座上。
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