[发明专利]基板处理设备、旋转式固定座及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理设备，包括：

一旋转式固定座，包括：

多个承载件，耦接至一旋转式基座，所述承载件中的每一者包括一销以及一支撑部，该销能转动地连接该支撑部，该销具有一倾斜部，用以在该基板的一上缘及该销间提供一间隙，该间隙从该销的一下表面至该销的一上表面连续地增大，以及

一旋转驱动机构，用以转动该旋转式基座；以及

一处理流体供给设备，设置在该旋转式固定座上。

2.如权利要求1所述的基板处理设备，其中所述承载件中的每一者还包括一承载夹，设置在该销上，且是配置以定位在邻接该基板的该上缘的一夹持位置。

3.如权利要求1所述的基板处理设备，其中该支撑部用以支撑该基板的一下缘。

4.如权利要求1所述的基板处理设备，其中该处理流体供给设备是择自包括具有一或多个通道的一圆形板、一或多个喷嘴臂及其组合的群中。

5.如权利要求1所述的基板处理设备，其中该处理流体供给设备耦接至一异丙醇源。

6.如权利要求1所述的基板处理设备，其中该销的该倾斜部是介于45度及89度间。

7.如权利要求1所述的基板处理设备，其中该销的该倾斜部是介于50度及80度间。

8.一种旋转式固定座，用以处理一基板，包括：

多个承载件，耦接至一旋转式基座，所述承载件中的每一者包括一销以及一支撑部，该销能转动地连接该支撑部，该销具有一倾斜部，用以在该基板的一上缘及该销间提供一间隙，该间隙从该销的一下表面至该销的一上表面连续地增大；

一加热器；以及

一旋转机构，耦接至该旋转式基座。

9.如权利要求8所述的旋转式固定座，其中所述承载件中的每一者是配置以锁固一基板，使得该销的该倾斜部面朝该基板的一侧缘。

10.如权利要求8所述的旋转式固定座，其中该旋转式固定座包括耦接至该加热器的一升降机构。

11.如权利要求8所述的旋转式固定座，其中所述承载件中的每一者还包括一承载夹，设置在该销上，且被配置以定位在邻接该基板的该上缘的一夹持位置。

12.如权利要求8所述的旋转式固定座，其中该支撑部用以支撑该基板的一下缘。

13.如权利要求8所述的旋转式固定座，其中该销的该倾斜部是介于45度及89度间。

14.如权利要求8所述的旋转式固定座，其中该销的该倾斜部是介于50度及80度间。

15.一种基板处理方法，包括：

以多个承载件在一旋转式固定座上承载一基板，所述承载件中的每一者包括一销、一夹持部、以及一支撑部，该销附接到该支撑部，该销具有一倾斜部，用以在该基板的一上缘及该销的该倾斜部间提供一间隙，该间隙从该销的一下表面至该销的一上表面连续地增大，其中固定该基板的操作包括相对于该支撑部旋转该销，且该夹持部延伸到该基板的一上表面上方；

配送一第一处理流体至该基板上；以及

配送一第二处理流体至该基板上。

16.如权利要求15所述的基板处理方法，还包括加热该基板以从该基板蒸发所配送的该第二处理流体。

17.如权利要求16所述的基板处理方法，其中在配送该第一处理流体时旋转该基板。

18.如权利要求16所述的基板处理方法，其中在配送该第二处理流体时旋转该基板。

19.如权利要求15所述的基板处理方法，其中该第一处理流体包括去离子水，且其中该第二处理流体包括异丙醇。