[发明专利]一种化学气相沉积装置

摘要

本发明提供的化学气相沉积装置，包括：反应腔室，以及相对设置的上极板与下极板；传动装置，包括一主体部以及设置在主体部上方的支撑部，传动装置设置在下极板的下方，其中，所述传动装置上设置有调节部件，调节部件用于调节下极板的位置，防止下极板的位置发生旋转偏移。通过在传动装置上设置调节部件，在实际生产过程中，调节部件可以直接调节下极板的位置，以达到防止下极板的位置发生旋转偏移的目的，并且，调节时不需要降温，也不需要打开反应腔室，因此缩短了生产周期，提高了生产效率。

主权项

1.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括：反应腔室，以及相对设置的上极板与下极板，所述上极板与所述下极板设置在所述反应腔室内；传动装置，包括一主体部以及设置在所述主体部上方的支撑部，所述传动装置设置在所述下极板的下方，其中，所述传动装置上设置有调节部件，所述调节部件用于调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移。