[发明专利]一种化学气相沉积装置

权利要求书

1.一种化学气相沉积装置，其特征在于，包括：

反应腔室，以及相对设置的上极板与下极板，所述上极板与所述下极板设置在所述反应腔室内；

传动装置，包括主体部以及设置在所述主体部上方的支撑部，所述支撑部位于所述反应腔室的内部，所述主体部的上部位于所述反应腔室的内部，所述主体部的下部从所述反应腔室穿出，位于所述反应腔室外部，所述传动装置设置在所述下极板的下方，其中，所述传动装置上设置有调节部件，所述调节部件用于调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移，其中，所述调节部件位于所述主体部的下部，所述调节部件包括设置在所述主体部的侧壁上的至少两组键孔，所述键孔的数量为一个或者多个；以及与所述至少两组键孔配合使用的至少两个调节板；其中，所述键孔位于主体部的相对两侧且位于同一平面，所述键孔与所述调节板均位于所述反应腔室外；

所述调节板包括第一部分和第二部分，其中，所述第一部分的长度大于所述第二部分的长度，所述第二部分为空心结构，且所述第二部分与所述主体部的截面大小、形状一致，所述第二部分的内侧上设置有与所述键孔匹配的第一突起部，所述第一突起部与所述键孔配合以固定所述主体部；所述支撑部的侧壁上设置有多个第二突起部，且所述下极 板与所述多个第二突起部连接处设置有多个凹糟，所述多个凹槽用于使传动装置与下极板固定连接。

2.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述调节部件包括设置在所述主体部侧壁上的若干个齿轮；

所述反应腔室下壁外侧上设置有与所述若干个齿轮配合的螺丝，所述螺丝的至少为两个，且相对设置在所述主体部侧壁的两侧；

所述若干个齿轮与所述螺丝配合以调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移。

3.根据权利要求2所述的化学气相沉积装置，其特征在于，还包括设置在所述主体部下方的马达，所述马达与所述调节部件配合，以调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移。

4.根据权利要求3所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述若干个齿轮的大小、形状均一致。

5.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述至少两个调节板的形状、大小均一致。

6.根据权利要求1所述的化学气相沉积装置，其特征在于，所述主体部的内部为空心结构，以伸出所需的走线。