[发明专利]一种化学气相沉积装置

说明书

本发明提供的化学气相沉积装置，包括：反应腔室，以及相对设置的上极板与下极板；传动装置，包括一主体部以及设置在主体部上方的支撑部，传动装置设置在下极板的下方，其中，所述传动装置上设置有调节部件，调节部件用于调节下极板的位置，防止下极板的位置发生旋转偏移。通过在传动装置上设置调节部件，在实际生产过程中，调节部件可以直接调节下极板的位置，以达到防止下极板的位置发生旋转偏移的目的，并且，调节时不需要降温，也不需要打开反应腔室，因此缩短了生产周期，提高了生产效率。

技术领域

本发明涉及化学气相沉积领域，具体涉及一种化学气相沉积装置。

背景技术

等离子体增强化学气相沉积法是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，从而在基板上沉积出薄膜。

陶瓷桶是等离子体增强化学气相沉积设备间距调节的传动装置，在传统的结构中，整个陶瓷桶是简洁回转体，并由止固螺丝固定在动轨上；在实际应用中，由于运动的偏移以及机械误差等因素，导致基底相对于理想位置存在偏移。所以，当基底发生偏移时，现有的做法是打开反应腔室，推动基底来实现调节。但由于每次调节都需要降温以及打开反应腔室，因此延长了生产周期，导致生产效率降低。

因此，有必要提供一种化学气相沉积装置，以解决现有技术所存在的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种化学气相沉积装置，能够缩短生产周期，提高生产效率。

本发明提供了一种化学气相沉积装置，包括：

反应腔室，以及相对设置的上极板与下极板，所述上极板与所述下极板设置在所述反应腔室内；

传动装置，包括一主体部以及设置在所述主体部上方的支撑部，所述传动装置设置在所述下极板的下方，其中，所述传动装置上设置有调节部件，所述调节部件用于调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移。

其中，所述支撑部位于所述反应腔室的内部，所述本体部的上部位于所述反应腔室的内部，所述本体部的下部从所述反应腔室穿出，位于所述反应腔室外部；其中，所述调节部件位于所述本体部的下部。

根据本发明一优选实施例，所述调节部件包括设置在所述主体部侧壁上的若干个齿轮；所述反应腔室下壁外侧上设置有与所述若干个齿轮配合的螺丝，所述螺丝的至少为两个，且相对设置在所述主体部侧壁的两侧；所述若干个齿轮与所述螺丝配合以调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移。

根据本发明一优选实施例，包括设置在所述主体部下方的马达，所述马达与所述调节部件配合，以调节所述下极板的位置，防止所述下极板的位置发生旋转偏移。

根据本发明一优选实施例，所述若干个齿轮的大小、形状均一致。

根据本发明一优选实施例，所述调节部件包括设置在所述主体部的侧壁上的至少两组键孔，所述任一组键孔的数量为一个或者多个；以及与所述至少两组键孔配合使用的至少两个调节板；其中，所述任一组键孔位于主体部的相对两侧且位于同一平面，所述键孔与所述调节板均位于所述反应腔室外。

根据本发明一优选实施例，所述调节板包括第一部分和第二部分；其中，所述第一部分的长度大于所述第二部分的长度，所述第二部分为空心结构，且所述第二部分与所述主体部的截面大小、形状一致；所述第二部分的内侧上设置有与所述键孔匹配的第一突起部，所述第一突起部与所述键孔配合以固定所述主体部。

根据本发明一优选实施例，所述至少两个调节板的形状、大小均一致。

根据本发明一优选实施例，所述主体部的内部为空心结构，以伸出所需的走线。

根据本发明一优选实施例，所述支撑部的侧壁设置有若干个第二突起部，所述第二突起部用于连接所述下极板。