[发明专利]掩模版移动装置、光刻机及光刻方法在审
| 申请号： | 201810145886.7 | 申请日： | 2018-02-12 |
| 公开（公告）号： | CN110147032A | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 丁功明 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种掩模版移动装置、光刻机及光刻方法。该掩模版移动装置包括：加热模块；所述加热模块包括掩模支架和加热单元；所述掩模支架内设置有掩模版设置区；所述加热单元固定于所述掩模支架上，所述加热单元包括第一加热面，所述第一加热面与所述掩模版设置区对应。本发明提供的掩模版移动装置，可以解决现有技术中，在光刻过程中，因掩模版受热膨胀后会产生弯曲，进而造成受热膨胀后掩模版上的图形偏离最佳的物面位置，致使出现物像距误差的问题，达到了提高掩模版定位的正确率，进而提高半导体集成电路的制作良率的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 掩模版 移动装置 加热单元 掩模支架 加热模块 受热膨胀 光刻机 加热面 设置区 光刻 半导体集成电路 光刻过程 图形偏离 物面位置 物像距 正确率 良率 制作 | ||
【主权项】：
1.一种掩模版移动装置，其特征在于，包括：加热模块；所述加热模块包括掩模支架和加热单元；所述掩模支架内设置有掩模版设置区；所述加热单元固定于所述掩模支架上，所述加热单元包括第一加热面，所述第一加热面与所述掩模版设置区对应。
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