[发明专利]掩模版移动装置、光刻机及光刻方法

权利要求书

1.一种掩模版移动装置，其特征在于，包括：加热模块；

所述加热模块包括掩模支架和加热单元；

所述掩模支架内设置有掩模版设置区；

所述加热单元固定于所述掩模支架上，所述加热单元包括第一加热面，所述第一加热面与所述掩模版设置区对应。

2.根据权利要求1所述的掩模版移动装置，其特征在于，还包括：

掩模版存储模块，用于存储掩模版；

掩模版载台模块，用于在光刻时固定掩模版；

掩模版传输模块，与所述掩模版存储模块和所述掩模版载台模块均相连，用于将掩模版在所述掩模版存储模块以及所述掩模版载台模块之间进行传输；

所述加热模块集成于所述掩模版存储模块内。

3.根据权利要求1所述的掩模版移动装置，其特征在于，还包括：

掩模版存储模块，用于存储掩模版；

颗粒度检测模块，用于对掩模版颗粒度进行检测；

掩模版载台模块，用于在光刻时固定掩模版；

掩模版传输模块，与所述掩模版存储模块、所述颗粒度检测模块以及所述掩模版载台模块均相连，用于将掩模版在所述掩模版存储模块、所述颗粒度检测模块以及所述掩模版载台模块之间进行传输；

所述加热模块集成于所述掩模版存储模块和/或所述颗粒度检测模块内。

4.根据权利要求1所述的掩模版移动装置，其特征在于，

所述加热单元为红外射线发射器或激光发射器。

5.根据权利要求1、2或3所述的掩模版移动装置，其特征在于，所述掩模版移动装置还包括温度维持单元，所述温度维持单元对所述加热模块加热后的所述掩模版进行温度维持。

6.根据权利要求5所述的掩模版移动装置，其特征在于，所述温度维持单元设置于掩模版传输模块和/或掩模版载台模块上；

所述掩模版载台模块，用于在光刻时固定掩模版；

所述掩模版传输模块，与掩模版存储模块、颗粒度检测模块以及所述掩模版载台模块均相连，用于将掩模版在所述掩模版存储模块、所述颗粒度检测模块以及所述掩模版载台模块之间进行传输。

7.根据权利要求6所述的掩模版移动装置，其特征在于，所述温度维持模块包括辅助加热单元和/或保温单元。

8.根据权利要求2、3、6或7所述的掩模版移动装置，其特征在于，

若所述温度维持单元设置于所述掩模版传输模块，且所述温度维持单元包括辅助加热单元，所述掩模版传输模块包括版叉，所述辅助加热单元包括第一辅助加热单元；

所述版叉用于在掩模版传输的过程中支撑掩模版；

所述第一辅助加热单元固定于所述版叉上，所述版叉传输掩模版的过程中，所述第一辅助加热单元对所述掩模版进行加热。

9.根据权利要求8所述的掩模版移动装置，其特征在于，所述第一辅助加热单元包括第二接触端，所述第二接触端与被所述版叉所支撑的所述掩模版点接触或面接触。

10.根据权利要求2、3、6或7所述的掩模版移动装置，其特征在于，

若所述温度维持单元设置于所述掩模版载台模块上，且所述温度维持单元包括辅助加热单元，所述掩模版载台模块包括掩模台，所述辅助加热单元包括第二辅助加热单元；

所述掩模台用于承载掩模版，所述第二辅助加热单元固定于所述掩模台上，所述第二辅助加热单元包括第三加热面，所述第三加热面与所述掩模版接触。

11.根据权利要求10所述的掩模版移动装置，其特征在于，

所述第二辅助加热单元用于在曝光工艺前对所述掩模版进行加热。

12.根据权利要求1、2、3、6或7所述的掩模版移动装置，其特征在于，

若所述温度维持单元包括保温单元；

所述保温单元设置于掩模版表面，以对所述掩模版进行保温。