[发明专利]螺旋结构的嵌段共聚物半导体纳米线制备方法及其用途有效

专利信息
申请号: 201810105772.X 申请日: 2018-02-02
公开(公告)号: CN108365096B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 邱龙臻;魏诗语;田丰收;王晓鸿;陆红波 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/30;H01L51/40;G01N27/414;B82Y40/00;B82Y30/00
代理公司: 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 代理人: 余成俊
地址: 230009 *** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种螺旋结构的嵌段共聚物半导体纳米线制备方法及其用途,由嵌段共聚物半导体材料和聚合物绝缘材料分别溶解在溶剂中再混合形成共混溶液,通过控制嵌段共聚物半导体材料和聚合物绝缘材料的质量比,获得螺旋结构不同密度和直径的嵌段共聚物半导体纳米线。本发明嵌段共聚物半导体纳米线可作为有机场效应晶体管氨气传感器的半导体层,能够提高氨气传感的灵敏度,降低检出限,并且仅通过制备工艺条件的改变即可改变纳米线的密度和直径。本发明首次通过共混的方法制备出具有螺旋结构的嵌段共聚物半导体纳米线,并将其应用与氨气传感且获得了较高的传感性能。
搜索关键词: 螺旋 结构 共聚物 半导体 纳米 制备 方法 及其 用途
【主权项】:
1.螺旋结构的嵌段共聚物半导体纳米线制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)、将嵌段共聚物半导体材料和聚合物绝缘材料分别溶解在各自有机溶剂中,再混合形成共混溶液,共混溶液中嵌段共聚物半导体材料和聚合物绝缘材料的质量比在1:80‑1:40;(2)、将步骤(1)得到的共混溶液旋涂在基底上,然后抽真空去除剩余溶剂,从而在基底上形成以聚合物绝缘材料为底层、以嵌段共聚物半导体材料为顶层的双层薄膜;(3)、将基底上形成的双层薄膜浸泡于中,使双层膜与基底分离并漂浮在过渡溶液表面,然后采用衬底放入过渡溶液中与双层膜表面接触,将双层薄膜翻转捞出,从而在衬底上形成以嵌段共聚物半导体材料为底层、以聚合物绝缘材料为顶层的翻转双层薄膜;(4)、采用正交溶剂浸泡步骤(3)得到的翻转双层薄膜,使绝缘材料溶解于正交溶剂中,以去除聚合物绝缘材料,即获得嵌段共聚物半导体纳米线,且嵌段共聚物半导体纳米线由于自身绝缘段的自组装特性形成螺旋结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥工业大学,未经合肥工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810105772.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top