[发明专利]阵列基板及其制作方法和显示面板有效

专利信息
申请号: 201810090552.4 申请日: 2018-01-30
公开(公告)号: CN108417580B 公开(公告)日: 2020-12-18
发明(设计)人: 晏国文 申请(专利权)人: 上海天马有机发光显示技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1368
代理公司: 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11603 代理人: 于淼
地址: 201201 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种阵列基板及其制作方法和显示面板。阵列基板,包括多个薄膜晶体管,薄膜晶体管包括:栅极、氧化物半导体层和刻蚀阻挡层;刻蚀阻挡层位于氧化物半导体层之上;氧化物半导体层包括沟道区和非沟道区,非沟道区包括电极区和连接区,电极区包括第一电极区和第二电极区,连接区包括第一连接区和第二连接区,第一电极区、第一连接区、沟道区、第二连接区和第二电极区沿第一方向依次排列,第一方向与阵列基板平行,其中,氧化物半导体层被刻蚀阻挡层覆盖的区域为沟道区;栅极位于氧化物半导体层远离刻蚀阻挡层一侧;沿第二方向上,至少一个连接区的宽度小于沟道区的宽度。本发明减小了栅极与非沟道区的交叠面积,减小了寄生电容。
搜索关键词: 阵列 及其 制作方法 显示 面板
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括多个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括:栅极、氧化物半导体层和刻蚀阻挡层;所述刻蚀阻挡层位于所述氧化物半导体层之上;所述氧化物半导体层包括沟道区和非沟道区,所述非沟道区包括电极区和连接区,所述电极区包括第一电极区和第二电极区,所述连接区包括第一连接区和第二连接区,所述第一电极区、所述第一连接区、所述沟道区、所述第二连接区和所述第二电极区沿第一方向依次排列,所述第一方向与所述阵列基板平行,其中,所述氧化物半导体层被所述刻蚀阻挡层覆盖的区域为所述沟道区;所述栅极位于所述氧化物半导体层远离所述刻蚀阻挡层一侧;沿第二方向上,至少一个所述连接区的宽度小于所述沟道区的宽度,所述第二方向与所述阵列基板平行,且与所述第一方向相交。
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