[发明专利]一种基于石墨烯/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件在审

专利信息
申请号: 201810082542.6 申请日: 2018-01-29
公开(公告)号: CN108054180A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 徐杨;郭宏伟;李炜;俞滨 申请(专利权)人: 杭州紫元科技有限公司
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310000 浙江省杭州市富阳区*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种基于石墨烯/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件,包括组成阵列的若干像素,所述像素自下而上依次包括栅极、半导体衬底、绝缘层、源极、漏极与石墨烯薄膜;所述源极和所述漏极水平间隔布置于所述绝缘层的上表面;所述石墨烯薄膜覆盖在所述源极、漏极及其之间的绝缘层的上表面。入射光照射到本发明的电荷耦合器件表面,被半导体衬底吸收。由于石墨烯薄膜的特殊性质,其通过电容性耦合可以有效收集载流子,产生的光电流信号直接从单个像素结构输出,实现本地读取、随机读取,无需采用传统器件的像素之间横向转移电荷方式,从根本上改变电荷耦合器件的电荷信号读出方式,提高成像系统的整体响应速度、线性动态范围和可靠性。
搜索关键词: 一种 基于 石墨 绝缘 半导体 结构 电荷耦合器件
【主权项】:
1.一种基于石墨烯/绝缘层/半导体结构的电荷耦合器件,包括组成阵列的若干像素,其特征在于,所述像素自下而上依次包括栅极、半导体衬底、绝缘层、源极、漏极与石墨烯薄膜;所述源极和所述漏极水平间隔布置于所述绝缘层的上表面;所述石墨烯薄膜覆盖在所述源极、漏极及其之间的绝缘层的上表面。
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