[发明专利]发光器件及发光器件的制作方法在审

专利信息
申请号: 201810075220.9 申请日: 2018-01-25
公开(公告)号: CN108305955A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 林敏 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 钟子敏
地址: 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 本申请公开了一种发光器件及发光器件的制作方法。所述发光器件包括基板及设置在所述基板上的阳极结构,在设置所述阳极结构时所述基板倾斜,所述阳极结构包括设置在所述基板上的第一增反层、设置在所述第一增反层上的金属层及设置在所述金属层上的第二增反层,以此提高阳极结构的透过率。
搜索关键词: 发光器件 阳极结构 基板 金属层 基板倾斜 透过率 制作 申请
【主权项】:
1.一种发光器件,其特征在于,包括基板及设置在所述基板上的阳极结构,在设置所述阳极结构时所述基板倾斜,所述阳极结构包括设置在所述基板上的第一增反层、设置在所述第一增反层上的金属层及设置在所述金属层上的第二增反层。
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