[实用新型]一种单晶硅生产用导流孔有效
申请号: | 201721340196.4 | 申请日: | 2017-10-18 |
公开(公告)号: | CN207944169U | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 路建华;陈钦强 | 申请(专利权)人: | 青海日晶光电有限公司 |
主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B15/00 |
代理公司: | 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 | 代理人: | 张宇 |
地址: | 817099 青海省海西蒙古族*** | 国省代码: | 青海;63 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种单晶硅生产用导流孔,包括法兰和惰性气体罐,法兰内圈设有若干个导流孔,若干个导流孔均与环形通道相连,法兰外壁的一侧开设有气体入口,气体入口与管道的一端相连,管道的中部铰接有挡板,挡板的一侧设有阀门,阀门的顶部设有旋转手柄,管道的另一端与惰性气体罐的气体出口相连。本实用新型通过若干个导流孔对单晶炉通入氩气,充分的带走高温熔融硅挥发的氧化物,以防止氧化物颗粒掉进硅溶液,进而运动到固液界面,破坏单晶原子排列的一致性,同时对晶体进行降温,加速拉晶时单晶硅的凝固,通过挡板防止原料在气化过程中产生的气体通过导流孔泄漏,防辐射铅层减少辐射对工作人员的危害,保护操作人员。 | ||
搜索关键词: | 导流孔 挡板 本实用新型 单晶硅生产 惰性气体罐 气体入口 阀门 单晶硅 氧化物颗粒 法兰内圈 法兰外壁 高温熔融 固液界面 环形通道 气化过程 气体出口 气体通过 旋转手柄 原子排列 中部铰接 氩气 单晶炉 防辐射 硅溶液 氧化物 单晶 法兰 挥发 拉晶 铅层 泄漏 凝固 辐射 | ||
【主权项】:
1.一种单晶硅生产用导流孔,包括法兰(1)和惰性气体罐(5),其特征在于,所述法兰(1)内圈设有若干个导流孔(2),若干个所述导流孔(2)均与环形通道(11)相连,所述法兰(1)外壁的一侧开设有气体入口(10),所述气体入口(10)与管道(3)的一端相连,所述管道(3)的中部铰接有挡板(9),所述挡板(9)的一侧设有阀门(4),所述阀门(4)的顶部设有旋转手柄(7),所述管道(3)的另一端与惰性气体罐(5)的气体出口相连。
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