[发明专利]光电二极管及其制造工艺有效
申请号: | 201711192894.9 | 申请日: | 2017-11-24 |
公开(公告)号: | CN109841701B | 公开(公告)日: | 2021-09-10 |
发明(设计)人: | 刘东庆 | 申请(专利权)人: | 比亚迪半导体股份有限公司;宁波比亚迪半导体有限公司 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/0352;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳众鼎专利商标代理事务所(普通合伙) 44325 | 代理人: | 谭果林 |
地址: | 518119 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了光电二极管,包括耗尽层、阳极金属,及顺序设置的阴极金属、N型掺杂阴极区、P型掺杂阳极区和绝缘层;阴极金属、N型掺杂阴极区和P型掺杂阳极区电性导通,耗尽层封闭于N型掺杂阴极区与P型掺杂阳极区之间,阳极金属的一端穿过绝缘层并与P型掺杂阳极区电性导通。还提供了光电二极管的制造工艺:在N型掺杂阴极区上外延生长出感光区;在感光区的上外延生长出P型掺杂阳极区;在P型掺杂阳极区上生长出绝缘层;在绝缘层上的接触窗口处沉积阳极金属,在N型掺杂阴极区背离P型掺杂阳极区的一侧沉积阴极金属;耗尽感光区形成耗尽层。P型掺杂阳极区和N型掺杂阴极区封闭耗尽层,避免耗尽层外露,有效消除表面漏电,明显增加信噪比。 | ||
搜索关键词: | 光电二极管 及其 制造 工艺 | ||
【主权项】:
1.光电二极管,包括阴极金属、N型掺杂阴极区、P型掺杂阳极区、绝缘层和阳极金属,所述阴极金属、所述N型掺杂阴极区、所述P型掺杂阳极区和所述绝缘层顺序设置,所述阴极金属、所述N型掺杂阴极区和所述P型掺杂阳极区电性导通,其特征在于:还包括耗尽层,所述耗尽层封闭包裹于所述N型掺杂阴极区与所述P型掺杂阳极区之间,所述绝缘层上设有接触窗口,且所述阳极金属的一端穿过所述接触窗口并与所述P型掺杂阳极区电性导通。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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