[发明专利]阵列基板及其制作方法、液晶显示设备及其制作方法有效
| 申请号： | 201710772131.5 | 申请日： | 2017-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN107402485B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 房毛毛;宋泳珍;杨子衡;沈世妃;李登涛;李盛荣;王宜申 | 申请（专利权）人： | 合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;G02F1/1341;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 初媛媛;陈岚 |
| 地址： | 230012 安徽省合肥市新*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的实施例提供了一种阵列基板及其制作方法，制作方法包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。本发明的实施例还提供了一种液晶显示设备及其制作方法。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制作方法 液晶显示 设备 | ||
【主权项】：
一种阵列基板的制作方法，包括：在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；通过对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案，并且形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，所述光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且通过蚀刻保护层与第二绝缘层接合，并且其中，在所述第一区中，第二绝缘层与第二金属图案层在衬底上的正投影重叠；以及在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥京东方显示技术有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201710772131.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种车载显示器
- 下一篇：阵列基板及其驱动方法、显示装置
