[发明专利]阵列基板及其制作方法、液晶显示设备及其制作方法

权利要求书

1.一种阵列基板的制作方法，包括：

在衬底上依次形成第一金属图案层、第一绝缘层、第二金属图案层和第二绝缘层；

在第二绝缘层上涂覆光致抗蚀剂；

通过对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案；

在所述光致抗蚀剂图案与第所述二绝缘层之间的夹缝形成蚀刻保护层，其中，在阵列基板的第一区中，所述光致抗蚀剂图案暴露第二绝缘层的顶表面的部分，并且所述光致抗蚀剂图案通过所述蚀刻保护层与第二绝缘层接合，并且其中，在所述第一区中，第二绝缘层与第二金属图案层在衬底上的正投影重叠；以及

在所述第一区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉所述蚀刻保护层并且蚀刻第二绝缘层的至少部分而不蚀刻第一绝缘层，从而暴露第二金属图案层的部分并且形成液晶导流槽。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光致抗蚀剂图案还暴露阵列基板的第二区中的第二绝缘层，并且其中，在所述第二区中，第二绝缘层与第一金属图案层在衬底上的正投影重叠，

所述方法还包括：

在所述第二区中，以光致抗蚀剂图案作为掩模而蚀刻掉第一绝缘层和第二绝缘层，从而暴露第一金属图案层。

3.根据权利要求2所述的方法，其中，所述蚀刻保护层与所述光致抗蚀剂图案的材料相同。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述形成蚀刻保护层的步骤包括：

在所述第一区中，采用光致抗蚀剂填充光致抗蚀剂图案与第二绝缘层之间的夹缝。

5.根据权利要求3所述的方法，其中所述蚀刻保护层是在所述通过对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案的过程中形成的，所述通过对光致抗蚀剂进行曝光和显影而形成光致抗蚀剂图案包括：采用半阶调光刻掩模板对光致抗蚀剂进行曝光，使得在第一区中，光致抗蚀剂被部分曝光；

对曝光后的光致抗蚀剂进行显影，从而在第一区中同时形成蚀刻保护层和光致抗蚀剂图案。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，采用半阶调光刻掩模板对光致抗蚀剂进行曝光，还使得在所述第二区中，光致抗蚀剂被完全曝光。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括，在形成第二金属图案层之前，在第一绝缘层上形成有源层图案。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，第一金属图案层为栅金属图案层，第一绝缘层为栅极绝缘层，第二金属图案层为源漏金属图案层，并且第二绝缘层为钝化层。

9.根据权利要求1所述的方法，其中，第一金属图案层为源漏金属图案层，第一绝缘层为栅极绝缘层，第二金属图案层为栅金属图案层，并且第二绝缘层为钝化层。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其中，所述栅金属图案层包括公共电极线图案。

11.根据权利要求10所述的方法，还包括，在形成液晶导流槽之后，去掉光致抗蚀剂图案，并且形成像素电极图案层。

12.根据权利要求2所述的方法，其中，所述第一区和所述第二区位于阵列基板的像素区中。

13.一种液晶显示设备的制作方法，包括：

根据权利要求1-12中任一项所述的方法来形成阵列基板；

在阵列基板上形成液晶层；以及

在液晶层上形成与阵列基板对盒的彩膜基板。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，在阵列基板上提供液晶层包括，通过液晶导流槽导流液晶，从而使液晶在阵列基板的像素区中连续分布。