[发明专利]一种COA阵列基板制作方法及相应的COA阵列基板有效
| 申请号： | 201710639390.0 | 申请日： | 2017-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN107402468B | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 杨立涛;谢克成;赵赫;赵蓉;刘泽钦;张扬;张迎春 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362;G03F7/00 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅;熊贤卿 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种COA阵列基板制作方法及相应的COA阵列基板，其中，制作方法包括：在基板上从下往上依次设置RGB三原色色阻、保护层及光阻；提供一光罩，在对应R色阻的位置开设第一通孔，在对应其他色阻的位置至少开设一个第二通孔，并在所述第二通孔处制作半透膜；采用所述光罩对所述光阻进行曝光和显影；对所述保护层以及被曝光、显影后的光阻进行干刻，在所述保护层上形成与R色阻贯通的透气孔和对应其他色阻位置的透气部。本发明使残留在色阻内的小分子气体，除了通过透气孔排出之外，还可以经由透气部排出，并且透气部位于对应其他色阻的位置，原先距离透气孔较远不易排出的小分子气体便可以通过透气部排出，增加了整体的透气性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 coa 阵列 制作方法 相应 | ||
【主权项】：
一种COA阵列基板制作方法，其特征在于，包括：在基板上从下往上依次设置RGB三原色色阻、保护层及光阻；提供一光罩，在对应R色阻的位置开设第一通孔，在对应其他色阻的位置至少开设一个第二通孔，并在所述第二通孔处制作半透膜；采用所述光罩对所述光阻进行曝光和显影；对所述保护层以及被曝光、显影后的光阻进行干刻，在所述保护层上形成与R色阻贯通的透气孔和对应其他色阻位置的透气部。
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