[发明专利]一种DAF芯片的制备方法有效
申请号: | 201710517576.9 | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN107275284B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 鲁学山 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 马永芬 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种DAF芯片的制备方法,包括:将切割后的若干芯片放置于DAF膜上,其中任意两个芯片在横向和纵向延伸方向上均不相交;根据每个芯片的位置确定横向切割线和纵向切割线;对DAF膜按照横向切割线和纵向切割线进行切割。该种制备方法将切割后的芯片以任意两个芯片在横向和纵向延伸方向上均不相交的方式放置于DAF膜上,之后根据每个芯片的位置确定切割线,按照切割线对芯片进行切割,这样可以采用刀片切割方式进行切割,降低生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 daf 芯片 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种DAF芯片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将切割后的若干芯片放置于DAF膜上,其中任意两个芯片在横向和纵向延伸方向上均不相交;根据每个芯片的位置确定横向切割线和纵向切割线;对所述DAF膜按照所述横向切割线和纵向切割线进行切割。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华进半导体封装先导技术研发中心有限公司,未经华进半导体封装先导技术研发中心有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710517576.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:半导体结构及其的形成方法
- 下一篇:一种存储单元的制造方法、存储单元及存储器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造