[发明专利]一种DAF芯片的制备方法有效
申请号: | 201710517576.9 | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN107275284B | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 鲁学山 | 申请(专利权)人: | 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 |
主分类号: | H01L21/78 | 分类号: | H01L21/78 |
代理公司: | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人: | 马永芬 |
地址: | 214135 江苏省无锡市新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 daf 芯片 制备 方法 | ||
1.一种DAF芯片的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
将切割后的若干芯片放置于DAF膜上,其中任意两个芯片在横向和纵向延伸方向上均不相交;
根据每个芯片的位置确定横向切割线和纵向切割线;
对所述DAF膜按照所述横向切割线和纵向切割线进行切割。
2.根据权利要求1所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述对所述DAF膜按照所述横向切割线和纵向切割线进行切割的步骤中,采用刀片切割的方式进行切割。
3.根据权利要求2所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述将切割后的若干芯片放置于DAF膜上的步骤中,相邻的两个芯片在横向和纵向上的间隙大于切割刀片的厚度。
4.根据权利要求1-3任一所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述将切割后的若干芯片放置于DAF膜上的步骤中,所述芯片排列于DAF膜直径所在直线上,芯片的贴片方向与所述直径方向呈45度角。
5.根据权利要求2或3所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述对所述DAF膜按照所述横向切割线和纵向切割线进行切割的步骤中,所述刀片切割的切割速度为30-90mm/s。
6.根据权利要求5所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述对所述DAF膜按照所述横向切割线和纵向切割线进行切割的步骤中,所述刀片切割的切割速度为70mm/s。
7.根据权利要求1-3任一所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述将切割后的若干芯片放置于DAF膜上的步骤之前,还包括将所述DAF膜固定于具有收纳及固定晶圆作用的框架上。
8.根据权利要求1-3任一所述的DAF芯片的制备方法,其特征在于,所述对所述DAF膜按照所述横向切割线和纵向切割线进行切割的步骤之前,还包括对所述DAF膜进行烘烤处理,使所述芯片和所述DAF膜上的DAF完全贴附。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造