[发明专利]一种三维纳米多孔铜及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201710469236.3 申请日: 2017-06-20
公开(公告)号: CN107400909A 公开(公告)日: 2017-11-28
发明(设计)人: 程乙峰;施志聪;柯曦;刘军;黄宗雄 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: C25D3/38 分类号: C25D3/38;C25D5/50;B82Y40/00;B01J23/72
代理公司: 广东广信君达律师事务所44329 代理人: 杨晓松
地址: 510062 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供了一种三维纳米多孔铜的制备方法,包括如下步骤S1)在导电基底表面自组装聚苯乙烯胶态晶体模板;S2)在自组装聚苯乙烯胶态晶体模板的导电基底表面电化学沉积铜;S3)将电沉积铜后的导电基底进行退火处理去除聚苯乙烯胶态晶体模板,得到三维纳米多孔铜。本发明利用聚苯乙烯胶态晶体作为模板,将铜电沉积至聚苯乙烯微球的间隙中,高温去除聚苯乙烯胶态晶体模板后获得三维纳米多孔铜。本发明的原材料价格便宜,操作简单,反应易控,重复性好,所制得的三维纳米多孔铜材料比表面积大,孔径均匀可控。
搜索关键词: 一种 三维 纳米 多孔 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种三维纳米多孔铜的制备方法,其特征在于,包括如下具体步骤:S1.将导电基底垂直插入聚苯乙烯乳液中,蒸发处理后取出导电基底,得到自组装聚苯乙烯胶态晶体的导电基底;S2.以步骤S1所得铜片基底为工作电极,镀铂钛网为对电极,甘汞电极为参比电极,将上述电极浸入镀液中,在三电极体系中进行电化学沉积,电沉积结束后将导电基底取出,用去离子水反复清洗,用氮气吹干,得到在聚苯乙烯微球沉积铜的铜片基底;S3.将步骤S2所得沉积铜的铜片基底进行退火处理,退火结束后取出,经反复清洗和吹干,得到三维纳米多孔铜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东工业大学,未经广东工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201710469236.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利
  • 一种镀铜电镀液及其使用方法-201910828837.8
  • 帅和平;黄海兵;刘晓芳;段志刚 - 四川省蜀爱新材料有限公司
  • 2019-09-03 - 2019-11-12 - C25D3/38
  • 一种镀铜电镀液及其使用方法,本发明涉及金属电镀领域,本发明的目的之一在于提供一种镀铜液,提供的技术方案如下:一种镀铜电镀液,所述的电镀液包括有CuSO4.5H2O 20‑180g/L,卤化铜20‑160g/L,乙基磺酸10‑20 g/L,吡啶乙基磺酸甜菜碱1‑2.5mg/L,丁炔二醇0.5‑2mg/L。本发明的有益效果在于,本发明提供的铜电镀液能够在工件表面获得稳定的镀层;工艺简单,成本低,适合工业化的生产。
  • 填孔电镀方法-201811004521.9
  • 覃兆云;良福成达;曾剑锋 - 真华成(深圳)贸易有限公司
  • 2018-08-30 - 2019-11-05 - C25D3/38
  • 本发明公开了一种填孔电镀方法,通过在硫酸铜填孔电镀液中添加甲醛,并且在开始填孔电镀之前分两次进行Dummy电解,第一次Dummy电解为在镀液中添加五水硫酸铜、硫酸、盐酸后进行Dummy电解数小时,第二次Dummy电解为在镀液中添加光泽剂、整平剂、湿润剂、甲醛后进行Dummy电解数小时,经过两次Dummy电解再进行正式的填孔电镀,能够实现非常理想的填孔效果。
  • 铜粉金属镀层、金属基板、节能防胀爆散热装置及其制备工艺-201710598310.1
  • 林进东;杨奥龙 - 林进东
  • 2017-07-21 - 2019-11-05 - C25D3/38
  • 本发明提供一种铜粉金属镀层的制备工艺、具有该金属镀层的金属基板、节能防胀爆散热装置及其制备工艺。铜粉金属镀层的制备工艺,包括具有步骤c.附着金属层;附着时工作槽中液体的温度为1‑15摄氏度,附着金属层至少包括附着打底层、附着雪花状金属层及附着紧固层的工序,附着得到具有雪花状结构的金属层,毛细力强,蒸发性能良好。具有该铜粉金属镀层的金属基板、及节能防爆散热装置具有制备过程节能环保、毛细力强、蒸发性能良好,能够保持金属基板的硬度,抗膨胀性能良好。该节能防胀爆散热装置可以实现0.3mm厚度的产品,解决了现有技术中只能实现0.6mm厚度热管散热装置的技术瓶颈。
  • 一种基于电镀的高强高导铜基纳米复合材料的制备方法-201811348611.X
  • 吕宝臣;高志玉;于飞 - 辽宁工程技术大学
  • 2018-11-13 - 2019-10-29 - C25D3/38
  • 本发明公开了一种基于电镀的高强高导铜基纳米复合材料的制备方法,包括如下步骤:步骤一、对基材进行镀前处理;步骤二、对所述基材预镀镍处理并清洗;步骤三、对所述基材进行电镀铜处理,所述电镀铜处理的电镀液至少包括铜盐、氯盐、NiSi2以及表面活性剂且pH值在3以下;步骤四、对所述基材进行镀后处理。所述表面活性剂采用CTAB以及曲拉通X‑100。本发明提供了一种可以提高电弓结构强度及导电性的基于电镀的高强高导铜基纳米复合材料的制备方法;在进行镀铜处理之前,预先进行镀镍处理,改变了镀铜的微观结构。运用pH值3以下的酸性复合电沉积配方与NiSi2不溶性粒子,将不同的多种此类镀层叠加塑性成型块体材料。
  • 一种可镀高纵横比通孔和盲孔的脉冲电镀光剂及其制备方法-201910816006.9
  • 丁先峰;李良华;黄兴鹏 - 广州皓悦新材料科技有限公司
  • 2019-08-30 - 2019-10-25 - C25D3/38
  • 本发明提供一种可镀高纵横比通孔和盲孔的脉冲电镀光剂及其制备方法,该脉冲电镀光剂包括聚乙二醇、聚二硫二丙烷磺酸钠、甲醛、脂肪胺与环氧乙烷加成物、交联聚酰胺、硫酸、亚乙基硫脉、十二烷磺酸钠、双苯磺酸酰亚胺、以及余量的水。本发明通过添加PEG20000改善低电流区光剂的走位能力,具体地,是通过PEG20000的运用改善阳极离子分解效率提高阳极迁移效率。通过加入的双苯磺酸酰亚胺添加细化镀层结晶,提高盲孔灌孔效果,改善盲孔镀层品质。
  • 一种用于柔性印制线路板的VCP镀铜工艺-201810266010.8
  • 董先友 - 东莞市斯坦得电子材料有限公司
  • 2018-03-28 - 2019-10-11 - C25D3/38
  • 本发明提供了一种用于柔性印制线路板的VCP镀铜工艺,包括如下步骤:先将垂直连续镀铜槽清洗干净;继续用去离子水循环清洗,向镀铜槽中加入去离子水、五水硫酸铜、硫酸、盐酸、镀铜添加剂(聚乙二醇、聚二硫二丙烷磺酸钠、健那绿),启动循环过滤泵,将待电镀柔性线路板输入槽内,启动电流;电镀后取出线路板,用水清洗干净;热风吹干,转入图形转移工序,本发明的柔性线路板垂直连续(VCP)镀铜工艺,使得柔性线路板镀铜后其柔韧性更强、涨缩性更小,导通孔的深镀能力更高,从而使得柔性线路板的抗弯折性大幅提高,更便于后续图形转移中的菲林对位,更有利于高密度线宽/线距(0.05mm/0.05mm)的柔性线路板的蚀刻,从而提高了产品品质和产品可靠性,生产过程无污染适合工业化生产。
  • 一种用于高纵横比孔径印制线路板通孔电镀的反向脉冲镀铜工艺-201910603450.2
  • 董先友 - 东莞市斯坦得电子材料有限公司
  • 2019-07-05 - 2019-10-08 - C25D3/38
  • 本发明提供了一种用于高纵横比孔径印制线路板通孔电镀的反向脉冲镀铜工艺,所述反向脉冲镀铜工艺包括:将镀铜槽清洗干净;继续用去离子水循环清洗,排掉清洗水;向经去离子水循环清洗后的镀铜槽中加入镀铜溶液和镀铜添加剂;开启循环过滤泵,同时打开空气搅拌阀门,进行空气搅拌,调节温度为22‑25℃;将待镀通孔板放入经搅拌的镀铜槽中进行镀铜;取出电镀板,用水清洗干净,再用85℃热风吹干;转入图形转移工序。本发明具有深镀能力很高,镀铜层的延展性优良,镀层结晶细密,解决了高纵横比印制线路板镀孔能力差的瓶颈,从而提升了高纵横比板镀孔的品质和产品品质的稳定性和可靠性,节省了大量铜,生产过程无污染适合工业化生产。
  • 一种用于版辊的去镀镍改底铜镀液、方法以及生产线-201910692262.1
  • 原少杰 - 东光运城制版有限公司
  • 2019-07-30 - 2019-10-08 - C25D3/38
  • 本发明公开的一种用于版辊的去镀镍改底铜镀液、方法以及生产线,其由以下成分组成:400‑500ml/L无氰铜开缸剂;45‑55ml/L光亮剂;30‑50ml/添加剂;10‑15ml/L酸碱调节剂;其余为水;所述无氰铜开缸剂为硫酸铜、氯化铜、硝酸铜中的一种或者多种的混合物,所述镀液中铜离子的含量为8‑12g/L;所述光亮剂为巯基苯并咪唑、巯基苯并噻唑、苯并三氮唑中的一种或者多种的混合物,所述镀液中光亮剂的含量为100‑150g/L;所述添加剂由以下组分以及重量百分比含量的原料配制得到:聚乙二醇1000∶0.7‑1.5%、聚二硫二丙烷磺酸钠:0.8‑1.3%,余量为纯水;所述酸碱调节剂为硫酸和氢氧化钠,二者的添加量以维持镀液的PH值为9.5‑10为准。本发明取消了传统的镀镍工艺,并以底铜工艺所代替,解决了含镍废水难处理的问题。
  • 一种具有高择优取向的铜晶体颗粒及其制备方法-201611037367.6
  • 张芸;王靖;朱自方;马涛;陈路明 - 苏州昕皓新材料科技有限公司
  • 2016-11-23 - 2019-10-01 - C25D3/38
  • 本发明公开了一种具有高择优取向的铜晶体颗粒及其制备方法,其铜晶体颗粒为柱状晶粒,并呈现垂直于衬底方向的择优取向,该微观结构通过直流电镀来制备,所需要的电镀溶液包括基础溶液和镀铜添加剂两部分。本发明采用了普通的直流电镀,不需要脉冲电镀,能在较高的电流密度下制备,同时实现择优取向程度的可控,本发明降低了设备成本,可以选用常规的电镀设备,并可以获得优异的微观结构,从而大幅度降低生产成本。
  • 一种PCB板用的高导电碳孔液及其制备方法和应用-201710970229.1
  • 章晓冬;刘江波;童茂军;林章清 - 广东天承科技有限公司
  • 2017-10-16 - 2019-09-24 - C25D3/38
  • 本发明涉及一种PCB板用的高导电碳孔液及其制备方法和应用,以所述碳孔液的质量百分比为100%计,所述碳孔液包括:导电炭黑1~5%,表面活性剂0.5~3%,分散剂1~5%,pH调节剂1~5%,粘结剂0.1~1%,银包覆的铜颗粒0.1~1%,余量为分散介质。制备方法包括:合成银包覆的铜颗粒,与其他各组分按所述百分比混合后进行研磨即得。导电炭黑和银包覆的铜颗粒协同作用,降低碳孔液中导电添加物的成本,且提高碳孔液的导电性,经过碳孔处理后,对电路板进行常规电镀流程,经过5次热冲击实验后没有出现pull away现象;碳孔液本身稳定性高,zeta电位达到‑40mv以上,合成方法简单。
  • 电镀装置和电镀方法-201910500490.4
  • 徐喜明;孙文兵;唐治宇 - 九江明阳电路科技有限公司
  • 2019-06-11 - 2019-09-20 - C25D3/38
  • 本发明公开了一种在工艺过程中无需添加金属球的电镀装置和电镀方法。该电镀装置包括电镀机构、阳离子补充机构和循环机构,电镀机构包括电镀作业部和循环部,阳离子补充机构包括补充液形成装置。上述电镀方法包括以下步骤:在补充液形成装置中制备补充液,在补充液形成装置与电镀作业部之间构建溶液循环,电镀。电镀机构在电镀过程中产生的过量酸通过循环机构运输到溶解机构中对金属废料或固态的主盐进行电解或溶解,得到电镀所需的高浓度主盐溶液,然后通过循环机构将主盐溶液重新运输到电镀机构中参与电镀过程,从而克服了PCB行业内电镀全自动化存在的难题,进而使PCB行业电镀全自动化得以实现。
  • 一种FPC柔性板镀铜添加剂及其制备方法-201810022784.6
  • 李亚全;王荣茹;周国新 - 深圳市星扬高新科技有限公司
  • 2018-01-10 - 2019-09-13 - C25D3/38
  • 本发明涉及线路板金属化处理技术领域,尤其是一种FPC柔性板镀铜添加剂及其制备方法。其中,添加剂按重量份计包括以下组分:聚醚2‑5份、苄基二硫丙烷磺酸钠0.15‑0.3份、咪唑0.1‑0.2份、苯酚聚氧乙烯醚1‑3份、黄染料0.02‑0.05份、水90‑96份。本发明相较于现有的镀铜添加剂最大深镀能力只能达到150%的性能,其具有180%‑200%的深镀能力,在同等电流密度以及保持产品性能差异性不大的前提下,利用本发明的添加剂进行柔性板的电路可以缩短电镀时间、提高产生;而且其可以适用于压延铜电镀。
  • 一种覆铜装置-201910514439.9
  • 梁海 - 广东华祐新材料有限公司
  • 2019-06-14 - 2019-08-16 - C25D3/38
  • 本发明公开一种覆铜装置,其包括装置本体,装置本体包括工作台、位于工作台下方的底座,底座的一侧设有用于盛放反应溶液的溶液箱,底座的另一侧设有用于加热干燥工件的干燥箱,溶液箱与干燥箱之间设有沥水台,溶液箱的上方设有用于悬挂工件的工件挂杆,溶液箱内设有与反应溶液接触的搅拌装置。本发明生产效率高,操作简单,安全性能高,覆铜效果好,同时还降低了工人的劳动强度,改善了现场环境。
  • 铜合金多孔吸液芯及其制备方法-201711136869.9
  • 于全耀;李柏霖;王治平;邱俊隆 - 中达电子(江苏)有限公司
  • 2017-11-16 - 2019-08-13 - C25D3/38
  • 提供一种铜合金多孔吸液芯的制备方法,包括如下步骤:a)配制电解液,为包括0.5‑1.8mol/L硫酸和0.1‑0.5mol/L硫酸铜的水溶液液;b)采用表面活性剂和碱性化合物的混合溶液对铜合金基底表面进行清洗,再用稀盐酸活化,然后清洗干净;c)将处理后的基底在所述电解液中电沉积以在所述基底上形成多孔结构;以及d)对步骤c)得到的产物水洗、干燥后,烧结。通过本发明方法可以在基底表面直接获得具有特定排布的、具有优异毛细力和渗透度的多孔结构,有利于工质传输。
  • 无氰碱性镀铜电镀液-201711340361.0
  • 田志斌;谢丽虹;詹益腾;邓正平 - 广州三孚新材料科技股份有限公司
  • 2017-12-14 - 2019-08-09 - C25D3/38
  • 一种无氰碱性镀铜电镀液,主要由以下浓度的组分混合而成:N,N,N'‑三(2‑羟丙基)‑N'‑羟乙基乙二胺1g/L~60g/L;四羟丙基乙二胺0~8g/L;1,3‑二溴‑5,5‑二甲基海因0g/L~0.6g/L;柠檬酸盐和/或酒石酸盐25g/L~45g/L;铜盐20g/L~50g/L;无机碱50g/L~70g/L;导电盐20g/L~120g/L;水余量;至少从所述1,3‑二溴‑5,5‑二甲基海因和四羟丙基乙二胺中选择一种。上述无氰碱性镀铜电镀液具有较强的分散能力。
  • 电镀铜用的电镀液及电镀工艺-201810055327.7
  • 周建中 - 佛山市诺诚化工有限公司
  • 2018-01-19 - 2019-07-26 - C25D3/38
  • 本发明提出了一种电镀铜用的电镀液及电镀工艺,包括以下组分:主盐180~220g/L,氨基磺酸120~250g/L及导电盐0.15~0.25g/L,溶剂为水。电镀工艺:(1)将金属铜放入上述电镀液中,作为阳极;(2)将工件放入上述电镀液中,作为阴极;(3)通入直流电源,进行电镀。该电镀液进行电镀获得的电镀铜层内应力低,符合电子产品的电镀需求,而且安全不容易发生事故。
  • 一种覆铜设备及覆铜方法-201910466812.8
  • 梁海 - 广东华祐新材料有限公司
  • 2019-05-31 - 2019-07-23 - C25D3/38
  • 本发明公开一种覆铜设备及覆铜方法,该设备包括覆铜装置、与覆铜装置电气连接的配电箱,覆铜装置包括壳体,壳体内设有第一支撑架、第二支撑架,第一支撑架上固定连接有至少两组升降机构,壳体底部设置有至少两个含有电镀液的溶液箱,升降机构靠近于溶液箱的一侧连接有负极导电片,负极导电片下方连接有工件挂位,第二支撑架上固定连接有至少两组正极导电片,升降机构在垂直方向上直线移动以促使待覆铜工件与电镀液进行反应。本发明的覆铜方法采用上述的覆铜设备进行覆铜。本发明覆铜生产完全自动化,带有多个溶液反应箱,生产效率高,操作简单,同时还降低了工人的劳动强度,改善了现场环境。
  • 高阶高密度电路板的循环镀铜方法-201910398260.1
  • 陶应辉;邓龙 - 四川海英电子科技有限公司
  • 2019-05-14 - 2019-07-19 - C25D3/38
  • 本发明公开了高阶高密度电路板的循环镀铜方法,它包括以下步骤:S1、配制电镀液:所述每升镀液中所含各组分的含量为:硫酸:90~100g;硫酸铜:60~72g;余量为去离子水,将硫酸、硫酸铜和去离子水混合并搅拌均匀,搅拌均匀后将混合液排放于电镀槽中;S2、将待电镀的基板的上下表面的毛刺去除掉,同时将基板的四周边缘去除毛刺;S3、将待电镀的基板放入超声波清洗机内,通过超声波清洗机对基板进行清洗,清洗时间为10~13min,清洗后将基板放入烘箱中进行烘干,烘干温度为25~26℃。本发明的有益效果是:工艺简单、极大提高镀层与基板的结合力、降低电镀成本。
  • 一种整平剂-201711483569.8
  • 郑臣谋;高健;邹浩斌;王植材;肖定军;刘彬云;宋兴文 - 广东东硕科技有限公司
  • 2017-12-29 - 2019-07-09 - C25D3/38
  • 本发明公开了一种整平剂,所述整平剂由一种或多种含氮杂环化合物、二种以上的多环氧基化合物和一种或多种多胺化合物反应而成的数均分子量分布在500‑20000的聚合物;使用本发明的整平剂进行电镀铜,可以获得在具有高厚径比通孔的孔口、孔内与基材表面,或者基材表面与高密度互连盲孔内部厚度均匀,表面光滑平整的铜层,使得铜电镀液具有良好的均镀能力和深镀能力,特别对厚径比达到15以上的通孔以及高密度互连盲孔有较好的镀覆能力,解决了现有整平剂的均镀能力和深镀能力不能满足现实需要的问题。
专利分类
×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top