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[发明专利]间隙填充方法-CN201811331123.8有效
发明人： J·F·卡梅伦;K·张;崔莉;D·格林;山田晋太郎 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-11-09 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供一种制造半导体装置的方法，其包括：提供半导体装置衬底，所述衬底的表面上具有浮雕图像，所述浮雕图像具有多个待填充的间隙；将涂层组合物施加至所述浮雕图像以提供涂层，其中所述涂层组合物包含(i)聚亚芳基寡聚物，其包含一种或多种具有两个或更多个环戊二烯酮部分的第一单体，和一种或多种具有芳香族部分和两个或更多个炔基部分的第二单体作为聚合单元；其中所述聚亚芳基寡聚物具有1000至6000Da的Mw、1至2的PDI，以及1:1的总第一单体比总第二单体的摩尔比；和(ii)一种或多种有机溶剂；固化所述涂层以形成聚亚芳基膜；使所述聚亚芳基膜图案化；以及将所述图案转移至所述半导体装置衬底。
间隙填充方法

[发明专利]盐和包含其的光致抗蚀剂-CN201811424699.9有效
发明人： E·阿卡德;J·F·卡梅伦;J·W·萨克莱 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-11-27 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： G03F7/031 文献下载
摘要：提供新型Te盐，其包括适用于极紫外光刻的光活性碲盐化合物。
包含光致抗蚀剂

[发明专利]用于高温应用的银涂层-CN202310375781.1在审
发明人： A·福伊特;M·克洛斯;M·利普舒兹 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司;DDP特种电子材料美国有限责任公司
申请日： 2023-04-10 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C28/02 文献下载
摘要：公开了一种制品和制造该制品的方法，其中该制品包括金属层序列，这些金属层被布置来抑制金属层间的粘附失效。这些金属层包括银顶涂层、银中间层、银‑锡合金层和镍层。这些层粘附至含有铜或铜合金的基材上。
用于高温应用涂层

[发明专利]光活性化合物、包含其的光致抗蚀剂组合物及图案形成方法-CN202310318419.0在审
发明人： E·阿卡德;朴钟根;岑寅杰;李忠奉 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-10-17 - 主分类号： C07C57/44 文献下载
摘要：一种具有式(1a)或(1b)的光活性化合物：其中R1是取代或未取代的C1‑30烷基、取代或未取代的C3‑30环烷基、取代或未取代的C3‑30杂环烷基、取代或未取代的C6‑30芳基、或包含选自氮、氧或其组合的芳香族环杂原子的取代或未取代的C3‑30杂芳基；R2和R3是如本文所提供的；R4是取代或未取代的C1‑30烷基、取代或未取代的C3‑30环烷基、取代或未取代的C3‑30杂环烷基、取代或未取代的C6‑30芳基、或取代或未取代的C3‑30杂芳基；并且M+是有机阳离子。#imgabs0#
活性化合物包含光致抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]光致抗蚀剂面涂层组合物和处理光致抗蚀剂组合物的方法-CN202310855544.5在审
发明人： J·A·凯茨;C·吴;I·考尔;李明琦;D·康;侯希森;刘骢 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-12-18 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本公开涉及光致抗蚀剂面涂层组合物和处理光致抗蚀剂组合物的方法。光致抗蚀剂面涂层组合物，其包含：包含具有以下通式(I)的单体作为聚合单元的含水碱溶性聚合物：#imgabs0#其中：R1选自H、卤素原子、C1‑C3烷基或C1‑C3卤代烷基；R2独立地选自经取代或未经取代的C1‑C12烷基或经取代或未经取代的C5‑C18芳基；R3和R4独立地是H、经取代或未经取代的C1‑C12烷基、经取代或未经取代的C5‑C18芳基；X是C2‑C6经取代或未经取代的亚烷基；其中X可以任选地包含一个或多个环并且与R2一起可以任选地形成环；L1是单键或连接基团；p是1到50的整数；并且q是1到5的整数；和溶剂。还提供涂布有所描述的面涂层组合物的衬底和处理光致抗蚀剂组合物的方法。本发明尤其适用于制造半导体器件。
光致抗蚀剂面涂层组合处理光致抗蚀剂方法

[发明专利]抑制锈蚀形成和腐蚀的方法-CN202310160732.6在审
发明人： A·希基;K·M·格里芬 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2023-02-23 - 公布日： 2023-09-26 - 主分类号： C25D3/54 文献下载
摘要：一种通过在银、银合金、金或金合金上施加薄的铋涂层来抑制银或银合金的锈蚀形成和金或金合金的腐蚀的方法。所述薄的铋涂层即使在热老化后也不会损害银、银合金、金或金合金的电气性能。
抑制锈蚀形成腐蚀方法

[发明专利]用于填充通孔以减少空隙的方法-CN202310168501.X在审
发明人： N·嘉雅拉朱;D·J·托雷森;J·J·狄茨维斯泽柯;J·约翰;Z·I·尼亚齐姆贝托瓦 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： C25D5/18 文献下载
摘要：公开了通过相移脉冲电镀工艺同时在基底的两侧先对基底的通孔进行初始镀铜以在通孔中间形成不完整的桥。随后对整个基底进行脉冲电镀以完成通孔的填充。
用于填充减少空隙方法

[发明专利]具有改进的晶须抑制的压配合端子-CN202310698906.4在审
发明人：何莼 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2020-05-18 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01L23/48 文献下载
摘要：本申请涉及具有改进的晶须抑制的压配合端子。一种用于插入到基板的导电通孔中的压配合端子包括具有外表面和内表面的弹性变形部分，所述压配合端子依次包括铜或铜合金基体、镍或镍合金阻挡层、锡或锡合金层以及铟顶层。所述压配合端子显示出减少的晶须形成。
具有改进抑制配合端子

[发明专利]含碘的光酸产生剂和包括其的组合物-CN201811308872.9有效
发明人： E·阿卡德;J·W·萨克莱 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2018-11-05 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： C07C25/18 文献下载
摘要：一种光酸产生剂化合物，其具有式(I)：其中，在式(I)中，基团和变量与本说明书中所描述的基团和变量相同。
产生包括组合

[发明专利]具有改善的完整性的铜柱和其制造方法-CN201910111092.3有效
发明人： R·波克雷尔;M·K·加拉格尔 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2019-02-12 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： H01L23/498 文献下载
摘要：铜柱具有改善的完整性，使得其能容易地承受后焊料凸块应用的苛刻的回焊条件而不容易失效。制造具有改善的完整性的铜柱的方法涉和不同电流密度的两步电镀法。
具有改善完整性制造方法

[发明专利]光致抗蚀剂面漆组合物及图案形成方法-CN202211631201.2在审
发明人： I·考尔;D·H·康;刘聪 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C09D133/16 文献下载
摘要：光致抗蚀剂面漆组合物包含：氟化的第一聚合物、第二聚合物、以及包含酯溶剂和一种或多种附加的有机溶剂的基于有机物的溶剂体系，其中该组合物基本上不含光酸产生剂化合物。本发明特别适用于制造半导体装置。
光致抗蚀剂面漆组合图案形成方法

[发明专利]光致抗蚀剂组合物及图案形成方法-CN202211634352.3在审
发明人：崔莉;S·M·科莱;E·阿卡德;岑寅杰;朴钟根;李忠奉;J·F·卡梅伦 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种光致抗蚀剂组合物，其包含：第一聚合物，该第一聚合物包含：含有羟基芳基基团的第一重复单元；含有第一酸不稳定基团的第二重复单元；以及含有pKa为12或更小的第一碱溶性基团并且不含羟基芳基的第三重复单元；其中该第一聚合物的第一、第二和第三重复单元彼此不同，并且该第一聚合物不含内酯基团；第二聚合物，该第二聚合物包含：含有第二酸不稳定基团的第一重复单元、含有内酯基团的第二重复单元、和含有pKa为12或更小的第二碱溶性基团的第三重复单元；其中，该第二聚合物的第一、第二和第三重复单元在结构上彼此不同；和溶剂；其中该第一聚合物和该第二聚合物彼此不同。
光致抗蚀剂组合图案形成方法

[发明专利]光致抗蚀剂底层组合物-CN202211555124.7在审
发明人： L-S·柯;A·查韦斯;山田晋太郎 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：一种形成图案的方法，该方法包括：在衬底上施加光致抗蚀剂底层组合物以提供光致抗蚀剂底层；在该光致抗蚀剂底层上形成光致抗蚀剂层；将该光致抗蚀剂层图案化；以及将图案从该图案化的光致抗蚀剂层转移到该光致抗蚀剂底层。该光致抗蚀剂底层组合物包括包含如本文所描述的由式1表示的重复单元的聚合物、包含如本文所描述的由式2表示的取代基的化合物、以及溶剂。
光致抗蚀剂底层组合

[发明专利]用于低损耗电介质的双马来酰亚胺交联剂-CN202011413161.5有效
发明人： J·墨菲;C·海耶斯;M·K·加拉格尔;K·弗拉伊斯里克;C·R·坎齐;C·卡拉布雷塞;王庆民 -专利权人： 罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： C08K5/3415 文献下载
摘要：本公开涉及一种包含从聚合芳基环丁烯单体而产生的聚合物和作为交联剂的双马来酰亚胺化合物的化学组合物；及其用途、尤其是在电子装置中的用途。
用于损耗电介质马来亚胺交联剂

[发明专利]用于硬涂层应用的UV-固化树脂组合物-CN202211257885.4在审
发明人： M·穆勒泽;K·赫尔南德斯;A·斯特拉;卜路嘉;张洁倩;王德岩;岑寅杰 -专利权人：杜邦电子公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请日： 2022-10-14 - 公布日： 2023-04-21 - 主分类号： C09D4/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于光学显示器的硬涂层中的光化辐射可固化(甲基)丙烯酸组合物，其含有一种或多种多官能(甲基)丙烯酸酯单体、一种或多种含Si(甲基)丙烯酸酯单体、一种或多种UV自由基引发剂、一种或多种改进表面固化的单体、纳米颗粒、以及一种或多种有机溶剂。由该组合物制造的经涂覆的硬涂层制品展现出用于显示器应用的改进的特性。
用于涂层应用 uv 固化树脂组合

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