[发明专利]LED电极制作方法、LED电极和LED芯片有效

专利信息
申请号: 201710326901.3 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN107123594B 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 胡卫 申请(专利权)人: 湘能华磊光电股份有限公司
主分类号: H01L21/285 分类号: H01L21/285;H01L33/00;H01L33/40
代理公司: 11603 北京晟睿智杰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 代理人: 于淼<国际申请>=<国际公布>=<进入国
地址: 423038 湖南省郴*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种LED电极制作方法、LED电极和LED芯片。本发明公开的LED电极制作方法,通过电子束真空蒸发镀膜的方式蒸镀电极,其中,蒸镀电极膜层的先后顺序为Rh、Al、Ti、Pt、Ti、Pt和Au。LED电极蒸镀时,首先蒸镀Rh层,然后蒸镀Al层,形成RhAl反射电极,工艺简单,提高了电极稳定性,同时提高了反射电极反射率,能够制作高发光效率的LED芯片。
搜索关键词: led 电极 制作方法 芯片
【主权项】:
1.一种LED电极制作方法,其特征在于,通过电子束真空蒸发镀膜的方式蒸镀电极,其中,蒸镀电极膜层的先后顺序为Rh、Al、Ti、Pt、Ti、Pt和Au,其中,所述蒸镀电极膜层的步骤包括:Rh层的蒸镀厚度为镀Rh时的蒸镀速率为Al层的蒸镀厚度为镀Al时的蒸镀速率为第一层Ti的蒸镀厚度为镀第一层Ti时的蒸镀速率为第一层Pt的蒸镀厚度为镀第一层Pt时的蒸镀速率为第二层Ti的蒸镀厚度为镀第二层Ti时的蒸镀速率为第二层Pt的蒸镀厚度为镀第二层Pt时的蒸镀速率为Au层的蒸镀厚度为镀Au时的蒸镀速率为其中,通过电子束真空蒸发镀膜的方式蒸镀电极的步骤中,本底真空度为3×10-6Pa。/n
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