[发明专利]LED电极制作方法、LED电极和LED芯片

权利要求书

1.一种LED电极制作方法，其特征在于，通过电子束真空蒸发镀膜的方式蒸镀电极，其中，蒸镀电极膜层的先后顺序为Rh、Al、Ti、Pt、Ti、Pt和Au，其中，所述蒸镀电极膜层的步骤包括：Rh层的蒸镀厚度为镀Rh时的蒸镀速率为Al层的蒸镀厚度为镀Al时的蒸镀速率为第一层Ti的蒸镀厚度为镀第一层Ti时的蒸镀速率为第一层Pt的蒸镀厚度为镀第一层Pt时的蒸镀速率为第二层Ti的蒸镀厚度为镀第二层Ti时的蒸镀速率为第二层Pt的蒸镀厚度为镀第二层Pt时的蒸镀速率为Au层的蒸镀厚度为镀Au时的蒸镀速率为其中，通过电子束真空蒸发镀膜的方式蒸镀电极的步骤中，本底真空度为3×10^-6Pa。

2.根据权利要求1所述的LED电极制作方法，其特征在于，在蒸镀电极之后包括制作电极保护层步骤：利用气相成膜法在电极上沉积电极保护层，然后利用刻蚀方法刻蚀电极保护层露出电极焊点，形成电极保护层。

3.根据权利要求2所述的LED电极制作方法，其特征在于，所述电极保护层的材料为无机非金属材料。

4.一种LED电极，其特征在于，所述LED电极由权利要求1～3任一项所述的LED电极制作方法制作而成。

5.一种LED芯片，其特征在于，包括权利要求4所述的LED电极。