[发明专利]一种调节装置和半导体处理设备

摘要

本发明提供一种调节装置和半导体处理设备。该调节装置包括固定机构和调节机构，固定机构用于固定线圈，且固定机构和线圈均容置于封闭的护罩内；调节机构对应线圈的中心设置，调节机构与固定机构固定连接，并与护罩活动连接，调节机构能带动固定机构相对护罩移动，以使线圈的中心与待处理晶片的工艺中心对应重合。该调节装置能使线圈的中心与待处理晶片的工艺中心对应重合，这能使线圈通电后耦合到反应腔室内的电磁场在对应待处理晶片的区域具有比较好的对称性，从而使反应腔室内对应待处理晶片的等离子体分布更加均匀，进而使待处理晶片经过等离子体处理后厚度更加均匀，提高了工艺处理的质量和效果。

主权项

1.一种调节装置，其特征在于，包括固定机构和调节机构，所述固定机构用于固定线圈，且所述固定机构和所述线圈均容置于封闭的护罩内；所述调节机构对应所述线圈的中心设置，其中，所述调节机构与所述固定机构固定连接，并与所述护罩活动连接，所述调节机构能带动所述固定机构相对所述护罩移动，以使所述线圈的中心与待处理晶片的工艺中心对应重合。