[发明专利]一种调节装置和半导体处理设备

权利要求书

1.一种调节装置，其特征在于，包括固定机构和调节机构，所述固定机构用于固定线圈，且所述固定机构和所述线圈均容置于封闭的护罩内；所述调节机构对应所述线圈的中心设置，其中，所述调节机构与所述固定机构固定连接，并与所述护罩活动连接，所述调节机构能带动所述固定机构相对所述护罩移动，以使所述线圈的中心与待处理晶片的重心对应重合。

2.根据权利要求1所述的调节装置，其特征在于，所述调节机构包括调整轴、轴套和调节杆，其中：

所述调整轴对应所述线圈的中心设置，且与所述固定机构固定连接；

所述护罩的顶壁上开设有第一通孔，所述调整轴贯穿所述第一通孔；

所述轴套设置于所述顶壁外侧，且与所述调整轴相嵌套并连接，用于使所述调整轴挂设在所述顶壁上；

所述调节杆围绕所述轴套的轴线并设置在所述轴套外围，所述调节杆与所述轴套活动连接，所述调节杆能推动所述轴套在平行于所述顶壁所在平面的任意方向上移动，以使所述轴套带动所述调整轴在所述第一通孔中朝所述任意方向移动。

3.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，所述第一通孔的孔径大于所述调整轴的轴径，所述线圈的中心的调整范围为所述第一通孔的孔径与所述调整轴的轴径的差值。

4.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，所述调节机构还包括固定支架，所述固定支架围绕所述轴套的轴线对应位于所述轴套外围，所述固定支架的第一端固定在所述顶壁上，第二端与所述轴套的沿其轴线方向延伸的侧壁相对应且相互间隔，所述第二端上开设有第二通孔；

所述调节杆贯穿所述第二通孔并与所述轴套的沿其轴线方向延伸的侧壁相接触并活动连接。

5.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，所述调节杆的数量为四个，四个所述调节杆围绕所述轴套的轴线等间隔分布于所述轴套的外围。

6.根据权利要求2或4所述的调节装置，其特征在于，所述调节杆的与所述轴套相接触的端部设置有螺纹，所述轴套的与所述调节杆相对应的侧壁区域开设有螺纹盲孔，所述调节杆的设置有螺纹的端部与所述螺纹盲孔相适配且相嵌套。

7.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，所述调节机构还包括固定帽，所述调整轴的延伸至所述护罩顶壁外的第一端端部从所述轴套中凸出，并与所述固定帽相嵌套且连接；

所述固定帽的外径大于所述轴套的内径。

8.根据权利要求2所述的调节装置，其特征在于，所述固定机构包括第一支架和第二支架，其中，

所述第一支架与所述护罩顶壁平行且相对，且所述第一支架与所述调整轴固定连接；

所述第二支架对应分布于所述护罩内四周侧壁处，且所述第二支架的顶端与所述第一支架连接，所述第二支架的底端与所述护罩的底壁相对；

所述线圈固定设置于所述第二支架上。

9.根据权利要求8所述的调节装置，其特征在于，所述第二支架包括支架本体、压紧块和连接件，

所述支架本体的背对所述护罩侧壁的内侧壁上开设有多个凹槽，所述凹槽用于容置所述线圈；

所述压紧块能压合在所述支架本体的设置有所述凹槽的内侧壁上，用于将所述线圈压入所述凹槽中；

所述支架本体和所述压紧块通过所述连接件连接。

10.根据权利要求9所述的调节装置，其特征在于，所述支架本体的数量为四个，四个所述支架本体等间隔围设形成环形；所述压紧块的数量为四个，四个所述压紧块分别对应四个所述支架本体将所述线圈的绕其轴线的四周压合至所述凹槽中。

11.一种半导体处理设备，其特征在于，包括权利要求1-10任意一项所述的调节装置。