[发明专利]一种碳化硅沉积设备及其进气装置有效

专利信息
申请号: 201611177540.2 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN106435527B 公开(公告)日: 2019-02-05
发明(设计)人: 戴煜;胡祥龙;周岳兵 申请(专利权)人: 湖南顶立科技有限公司
主分类号: C23C16/455 分类号: C23C16/455;C23C16/32
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 罗满
地址: 410118 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提供了一种碳化硅沉积设备的进气装置,包括MTS储液罐、混合罐和缓冲罐,MTS储液罐上设有氢气输入管道,氢气输入管道开口伸入到MTS液位下方,MTS储液罐的顶部还设有储液罐排气口,储液罐排气口通过第一管道与混合罐的第一进气口相连,混合罐还设有第二进气口,第二进气口用于输入氩气,混合罐设有混合罐排气口,混合罐排气口通过第二管道与缓冲罐的进气口相连,缓冲罐设有缓冲罐排气口,缓冲罐排气口通过第三管道与碳化硅沉积设备的炉体相连。本发明的进气装置,设置混合罐和缓冲罐,工艺气体经过两个罐体之后可以减小压力波动,气体的压力也更容易控制。
搜索关键词: 一种 碳化硅 沉积 设备 及其 装置
【主权项】:
1.一种碳化硅沉积设备的进气装置,其特征在于:包括MTS储液罐(1)、混合罐(2)和缓冲罐(3),所述MTS储液罐(1)上设有氢气输入管道(11),所述氢气输入管道(11)开口伸入到MTS液位下方,所述MTS储液罐(1)的顶部还设有储液罐排气口(12),所述储液罐排气口(12)通过第一管道(51)与所述混合罐(2)的第一进气口(21)相连,所述混合罐(2)还设有第二进气口(22),所述第二进气口(22)用于输入氩气,所述混合罐(2)设有混合罐(2)排气口,所述混合罐(2)排气口通过第二管道(52)与所述缓冲罐(3)的进气口(31)相连,所述缓冲罐(3)设有缓冲罐排气口(32),所述缓冲罐排气口(32)通过第三管道(53)与碳化硅沉积设备的炉体(4)相连。
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