[发明专利]一种双重图形技术图案化磁性隧道结的方法

摘要

本发明提供了一种双重图形技术图案化磁性隧道结的方法，步骤如下：提供具有MTJ多层膜结构的基底；在基底上依次形成Ta膜层和介电膜层；采用与MTJ相反的图案进行图案化定义；对定义好的MTJ相反图案进行修剪，对BRAC进行刻蚀，将MTJ相反图案转移到介电膜层，形成相反图案衬底；沉积一层介电质在MTJ相反图案衬底；对介电质进行回刻；氧气干刻蚀工艺除去PR和BARC，以完成对MTJ的图案化定义；反应离子束刻蚀图案化定义好的双层掩模，使图案顺利转移到MTJ膜层；采用CH3OH等气体干刻蚀MTJ膜层，以完成MTJ的图案化。

主权项

一种双重图形技术图案化磁性隧道结的方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1：提供具有磁性隧道结膜层结构的基底；步骤S2：在所述基底上依次形成钽膜层和介电膜层；步骤S3：以底部抗反射层和光刻胶层来定义与磁性隧道结图案相反的图案，完成图案化定义，得到磁性隧道结相反图案；步骤S4：对所述磁性隧道结相反图案进行修剪，并对所述底部抗反射层进行刻蚀，将所述磁性隧道结相反图案转移到所述介电膜层，形成相反图案衬底；步骤S5：沉积一层介电质在所述相反图案衬底；步骤S6：对所述介电质进行回刻；步骤S7：用氧气干刻蚀工艺除去所述光刻胶层和所述底部抗反射层，以完成对磁性隧道结的图案化定义，得到双层掩模；步骤S8：反应离子束刻蚀所述双层掩模，使所述磁性隧道结图案转移到所述磁性隧道结膜层；步骤S9：采用气体干刻蚀所述磁性隧道结膜层，以完成磁性隧道结的图案化。