[发明专利]研磨组合物和使用该研磨组合物的研磨方法有效
申请号: | 201610291270.1 | 申请日: | 2016-05-05 |
公开(公告)号: | CN106167691B | 公开(公告)日: | 2018-07-13 |
发明(设计)人: | 藤本广志 | 申请(专利权)人: | 昭和电工株式会社 |
主分类号: | C09K3/14 | 分类号: | C09K3/14 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 李照明;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供溶解稳定性优异、且能够以高研磨速率进行研磨加工的研磨组合物、和使用该研磨组合物的研磨方法。于是,提供了一种将由选自蓝宝石、碳化硅、氮化镓、氮化铝中的1种以上的材料构成的基板使用含有以下(A)~(E)成分的研磨组合物进行研磨的研磨方法,(A)成分:选自金刚石、氮化硼、碳化硼和碳化硅中的1种以上的磨粒,(B)成分:碳原子数为10以上22以下的脂肪酸,(C)成分:非离子性表面活性剂,(D)成分:有机胺化合物,(E)成分:分散介质。其中,(A)成分的磨粒的平均粒径大于1.0μm且为10.0μm以下,(C)成分的含量为0.30~10质量%,(D)成分相对于(B)成分的摩尔比(D)/(B)为45/55~90/10。 | ||
搜索关键词: | 研磨组合物 研磨 碳化硅 磨粒 非离子性表面活性剂 有机胺化合物 金刚石 蓝宝石 脂肪酸 分散介质 平均粒径 碳原子数 研磨加工 氮化铝 氮化硼 氮化镓 摩尔比 碳化硼 基板 溶解 | ||
【主权项】:
1.一种研磨组合物,含有以下(A)~(E)成分,(A)成分:选自金刚石、氮化硼、碳化硼和碳化硅中的1种以上的磨粒,含量为0.03~3.0质量%,平均粒径大于1.0μm且为10.0μm以下,(B)成分:碳原子数为10以上22以下的脂肪酸,含量为0.10~10质量%,(C)成分:作为非离子性表面活性剂的聚氧乙烯牛脂烷基胺,含量为0.30~10质量%,(D)成分:有机胺化合物,含量为2.0~15质量%,(E)成分:分散介质,含量为70~95质量%,(D)成分相对于(B)成分的摩尔比(D)/(B)为45/55~90/10,并且,作为(E)成分的所述分散介质为水溶性有机溶剂与水的混合物,水溶性有机溶剂的含量相对于研磨组合物总量为大于50%质量、且为86质量%以下,水的含量相对于研磨组合物总量为3.0质量%以上且低于40质量%,水溶性有机溶剂相对于水的质量比、即水溶性有机溶剂/水为60/40~90/10。
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