[发明专利]彩膜基板及其制作方法、显示装置、曝光设备有效
申请号: | 201610158239.0 | 申请日: | 2016-03-18 |
公开(公告)号: | CN105589253B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 肖宇;汪栋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G03F7/00;G03F7/20 |
代理公司: | 北京博思佳知识产权代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种彩膜基板及其制作方法、显示装置、曝光设备,其中的彩膜基板的制作方法包括:在包括遮光图形的基板表面上形成一层感光胶;使用沿不同方向传播第一光束和第二光束透过掩膜板对所述感光胶进行曝光,以通过包括显影的过程形成彩膜层;其中,所述第一光束透过掩膜板所照射的区域与所述第二光束透过掩膜板所照射的区域相互交叠,以在所述感光胶的曝光区域内形成交叠区域和非交叠区域;所述彩膜层中,搭接在所述遮光图形之上的部分均位于所述非交叠区域内。由此,本发明可以改善传统工艺下彩膜与黑矩阵重叠部分出现的角段差,并有助于提升膜层的平坦度和显示器件的显示品质。 | ||
搜索关键词: | 彩膜基板 及其 制作方法 显示装置 曝光 设备 | ||
【主权项】:
1.一种彩膜基板的制作方法,其特征在于,包括:在包括遮光图形的基板表面上形成一层感光胶;使用沿不同方向传播第一光束和第二光束透过掩膜板对所述感光胶进行曝光,以通过包括显影的过程形成彩膜层;其中,所述第一光束透过掩膜板所照射的区域与所述第二光束透过掩膜板所照射的区域相互交叠,以在所述感光胶的曝光区域内形成交叠区域和非交叠区域;所述彩膜层中,搭接在所述遮光图形之上的部分均位于所述非交叠区域内;形成所述第一光束和所述第二光束的光学系统包括分束器件、第一偏光器件和第二偏光器件,其中:所述分束器件用于将入射的一束平行光分为沿不同方向传播的第一平行光和第二平行光;所述分束器件包括入射面、第一出射面以及第二出射面;所述第一出射面、所述第二出射面分别相对于所述入射面倾斜设置,且所述第一出射面与所述第二出射面相交形成交线,所述第一出射面、所述第二出射面分别自所述交线向背离所述入射面的方向延伸;所述入射的一束平行光入射所述入射面,所述第一平行光从所述第一出射面出射,所述第二平行光从所述第二出射面出射;所述第一偏光器件和所述第二偏光器件分别用于改变所述第一平行光和所述第二平行光的传播方向,以形成射向掩膜板的所述第一光束和所述第二光束。
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