[发明专利]蚀刻剂组合物，利用它制造液晶显示装置的阵列基板的方法和阵列基板

摘要

本发明涉及蚀刻剂组合物，以及利用它制造液晶显示装置的阵列基板的方法和阵列基板。当使用本发明的蚀刻剂组合物蚀刻铜基金属层时，得到优秀的蚀刻剖面和数量多的加工板。

主权项

1.用于铜基金属层的蚀刻剂组合物，其相对于所述组合物的总重量，包含，/n0.5重量％至10重量％的铜化合物；/n0.01重量％至2重量％的氟化合物；/n1重量％至10重量％的一种或多种类型无机酸，其选自由硝酸、硫酸、磷酸和高氯酸所组成的组；/n0.1重量％至10重量％的一种或多种类型氯化合物，其选自由盐酸、氯化钠、氯化钾、氯化铵、甲磺酰氯、乙磺酰氯、氯苯磺酰氯、苯磺酰氯和氯乙磺酰氯所组成的组；/n1重量％至10重量％的一种或多种类型有机酸，其选自由乙酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡糖酸、乙醇酸、草酸、戊酸、磺基苯甲酸、磺基琥珀酸、磺基邻苯二甲酸、水杨酸、磺基水杨酸、苯甲酸、乳酸、甘油酸、苹果酸、酒石酸、异柠檬酸、丙酸、亚氨基二乙酸和乙二胺四乙酸所组成的组，或其盐；/n0.1重量％至10重量％的一种或多种类型无机盐，其选自由硫酸铵、硫酸钠、硫酸钾、硫酸钙、硫酸氢铵、硫酸氢钠、硫酸氢钾、硫酸氢钙、硝酸铵、硝酸钠、硝酸钾和硝酸钙所组成的组；/n0.01重量％至5重量％的环胺化合物；/n0.5重量％至10重量％的螯合剂；和/n余量的水，/n其中，所述螯合剂是/n1)顺型二羧酸或其盐，/n2)选自由马来酸、柠康酸、邻苯二甲酸、1,2,4,5-苯四羧酸、苯六甲酸、4-磺基邻苯二甲酸、喹啉酸、顺-5-降冰片烯-外-2,3-二羧酸、1,2,3,4-环丁烷四羧酸和顺,顺,顺,顺-1,2,3,4-环戊烷四羧酸的一种或多种类型所组成的组，或其盐，或/n3)选自由丙二酸、琥珀酸和戊二酸所组成的组中的一种或多种类型，或其盐。/n