[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 201610094153.6 申请日: 2016-02-19
公开(公告)号: CN106486475A 公开(公告)日: 2017-03-08
发明(设计)人: 松下宪一 申请(专利权)人: 株式会社东芝
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L27/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 代理人: 张世俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实施方式的半导体装置具有第1导电型的第1半导体区域、第2导电型的第2半导体区域、第2导电型的第3半导体区域、第2导电型的第4半导体区域、及绝缘部。第4半导体区域与第3半导体区域相隔。第4半导体区域的第2导电型的载子密度高于第2半导体区域的第2导电型的载子密度。第4半导体区域的从第2半导体区域朝向第1半导体区域的第1方向上的端部相对于第3半导体区域的第1方向的端部,设置在第1方向侧。绝缘部设置在第4半导体区域之上、和第2半导体区域中位于第3半导体区域与第4半导体区域之间的部分的至少一部分之上。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于包括:第1导电型的第1半导体区域;第2导电型的第2半导体区域,设置在所述第1半导体区域之上;第2导电型的第3半导体区域,所述第3半导体区域的至少一部分由所述第2半导体区域包围;第2导电型的第4半导体区域,所述第4半导体区域的至少一部分由所述第2半导体区域包围,所述第4半导体区域与所述第3半导体区域相隔,所述第4半导体区域的第2导电型的载子浓度高于所述第2半导体区域的第2导电型的载子浓度,所述第4半导体区域的第1方向上的端部相对于所述第3半导体区域的所述第1方向上的端部设置在所述第1方向侧,且所述第1方向是从所述第2半导体区域朝向所述第1半导体区域的方向;及绝缘部,设置在所述第4半导体区域之上、和位于所述第3半导体区域与所述第4半导体区域之间的所述第2半导体区域的一部分之上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社东芝,未经株式会社东芝许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201610094153.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top