[发明专利]线栅偏振器件及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201610076984.0 | 申请日： | 2016-02-03 |
| 公开（公告）号： | CN105572780B | 公开（公告）日： | 2018-09-11 |
| 发明（设计）人： | 邸云萍;王维;姚继开;祝明;谷新;刘震 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;G02F1/133 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种线栅偏振器件及其制作方法、显示装置，该线栅偏振器件包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的碳纳米管线栅和金属线栅，所述金属线栅与所述碳纳米管线栅层叠设置，所述碳纳米管线栅包括多个轴向方向相同的碳纳米管。本发明提供的线栅偏振器件，包括层叠设置的碳纳米管线栅和金属线栅，在制作该线栅偏振器件时，可以避免高膜厚金属的等离子体干刻工艺，从而降低了制作工艺难度，增强了工艺稳定性和线栅偏振器的化学稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 偏振 器件 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种线栅偏振器件，其特征在于，包括衬底基板以及设置在所述衬底基板上的多条碳纳米管线栅和多条金属线栅，所述金属线栅与所述碳纳米管线栅层叠设置，所述碳纳米管线栅包括多个轴向方向相同的碳纳米管；其中，所述金属线栅位于所述碳纳米管线栅远离所述衬底基板的一侧。
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