[发明专利]TFT阵列基板及其制作方法有效
申请号: | 201610053305.8 | 申请日: | 2016-01-26 |
公开(公告)号: | CN105470269B | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 徐向阳 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1343;G02F1/1362 |
代理公司: | 深圳市德力知识产权代理事务所44265 | 代理人: | 林才桂 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种TFT阵列基板及其制作方法。该TFT阵列基板设置有与主区像素电极(501)、次区像素电极(502)位于同一层的透明导电薄膜电极板(503)、位于第二金属层(M20)的第二金属电极板(202)、及位于第一金属层(M10)的公共电极线(102),部分公共电极线(102)、第二金属电极板(202)、以及透明导电薄膜电极板(503)在空间上重叠,且透明导电薄膜电极板(503)通过贯穿绝缘保护层(40)和栅极绝缘层(20)的第二过孔(422)与所述部分公共电极线(102)相接触,所述部分公共电极线(102)、第二金属电极板(202)、以及透明导电薄膜电极板(503)共同构成电荷共享电容(C10),能够提高电荷共享电容的容量,增加开口率,提高液晶显示面板的显示质量。 | ||
搜索关键词: | tft 阵列 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
一种TFT阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板(10)、及阵列排布于所述衬底基板(10)上的数个子像素单元(P);每一子像素单元(P)均包括:设于所述衬底基板(10)上图案化的第一金属层(M10)、覆盖所述第一金属层(M10)的栅极绝缘层(20)、设于所述栅极绝缘层(20)上的半导体层(30)、设于所述半导体层(30)和栅极绝缘层(20)上图案化的第二金属层(M20)、覆盖所述第二金属层(M20)和栅极绝缘层(20)的绝缘保护层(40)、以及设于所述绝缘保护层(40)上的图案化的透明导电薄膜层(50);所述透明导电薄膜层(50)包括:相互独立的主区像素电极(501)、次区像素电极(502)、及透明导电薄膜电极板(503);所述主区像素电极(501)电性连接主像素开关TFT(T10)、以及电荷共享TFT(T30),次区像素电极(502)电性连接次像素开关TFT(T20);所述图案化的第一金属层(M10)包括:主像素开关TFT(T10)、次像素开关TFT(T20)、与电荷共享TFT(T30)的栅极(101)、以及公共电极线(102);所述图案化的第二金属层(M20)包括:主像素开关TFT(T10)、次像素开关TFT(T20)、与电荷共享TFT(T30)的源/漏极(201)、及第二金属电极板(202);部分公共电极线(102)、第二金属电极板(202)、以及透明导电薄膜电极板(503)在空间上重叠,且所述透明导电薄膜电极板(503)通过贯穿所述绝缘保护层(40)和栅极绝缘层(20)的第二过孔(422)与所述部分公共电极线(102)相接触,所述部分公共电极线(102)、第二金属电极板(202)、以及透明导电薄膜电极板(503)共同构成该子像素单元(P)的电荷共享电容(C10);所述电荷共享TFT(T30)电性连接于电荷共享电容(C10);所述主区像素电极(501)与所述次区像素电极(502)均为米字型结构,包括:一条状的竖直主干、一与竖直主干中心垂直相交的条状的水平主干、以及数个分别与竖直主干或水平主干呈±45°或±135°的条状分支。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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