[发明专利]生成功率半导体模块的方法在审

专利信息
申请号: 201580074200.4 申请日: 2015-10-21
公开(公告)号: CN107210232A 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: V.斯夫瓦苏布拉尼亚姆;D.圭尔龙;P.莫林;R-A.圭尔勒明;S.哈特曼恩 申请(专利权)人: ABB瑞士股份有限公司
主分类号: H01L21/48 分类号: H01L21/48;H01L23/373;H01L23/498
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 郑浩,刘春元
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种生成功率半导体模块的方法,该方法包括下列步骤a)提供载体层(12);b)提供具有端子连接区(22)的衬底(14);c)通过形成焊料层(20)将衬底(14)焊接到载体层(12);其中d)焊料层(20)被形成,使得预定义空腔(28)提供在焊料层(20)中与衬底(14)相邻,并且定位成与端子连接区(22)相对;以及e)将端子(24)熔接到衬底(14)的端子连接区(22)。本发明提供一种生成功率半导体模块的方法,其执行得特别节省成本,并且允许高质量模块的可靠生成。
搜索关键词: 生成 功率 半导体 模块 方法
【主权项】:
一种生成功率半导体模块的方法,所述方法包括下列步骤:a)提供载体层(12);b)提供具有端子连接区(22)的衬底(14);c)通过形成焊料层(20)将所述衬底(14)焊接到所述载体层(12);其中d)所述焊料层(20)被形成,使得预定义空腔(28)提供在所述焊料层(20)中与所述衬底(14)相邻,并且定位成与所述端子连接区(22)相对;以及e)将端子(24)熔接到所述衬底(14)的所述端子连接区(22)。
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