[发明专利]封装件及其形成方法有效
申请号: | 201510812062.7 | 申请日: | 2015-11-20 |
公开(公告)号: | CN106057773B | 公开(公告)日: | 2018-11-06 |
发明(设计)人: | 胡毓祥;刘重希;郭宏瑞;郑明达 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/528 | 分类号: | H01L23/528;H01L21/56 |
代理公司: | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人: | 章社杲;李伟 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 一种方法包括在载体上方形成粘合层,在粘合层上方形成牺牲层,在牺牲层上方形成通孔,以及在牺牲层上方放置器件管芯。该方法还包括模制和平坦化器件管芯和通孔,通过去除粘合层使载体脱粘,以及去除牺牲层。本发明的实施例还涉及扇出互连结构及其形成方法。 | ||
搜索关键词: | 互连 结构 及其 形成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种形成封装件的方法,包括:在载体上方形成粘合层;在所述粘合层上方形成牺牲层;在所述牺牲层上方形成通孔;在所述牺牲层上方放置器件管芯;模制和平坦化所述器件管芯和所述通孔;通过去除所述粘合层使所述载体脱粘;以及去除所述牺牲层。
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