[发明专利]半导体晶圆的测量装置及方法有效
申请号: | 201510080885.5 | 申请日: | 2015-02-15 |
公开(公告)号: | CN105990174B | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 金一诺;王坚;王晖 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 施浩 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明涉及一种半导体晶圆的测量装置和方法。该测量装置包括,探头、驱动轮和承载架,其中的探头包括电涡流探头,而承载架包括滑轨和旋转环,滑轨的形状与旋转环相匹配;用于测试的晶圆安放在旋转环上,晶圆与旋转环的相对位置被旋转环与所述晶圆的边缘相接触的部分所限定,旋转环带动晶圆在滑轨上转动且在转动过程中晶圆和旋转环无相对滑动,旋转环的转动由驱动轮驱动;电涡流探头分为发射探头和接收探头,发射探头和接收探头在测量晶圆时非接触的分设于晶圆的正反两面,发射探头和接收探头均垂直地指向晶圆所在的平面且二者始终共线,以保证接收探头接收到发射探头产生的激励信号。本发明同时还公开了使用该种测量装置对晶圆进行测量的方法。 | ||
搜索关键词: | 半导体 测量 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体晶圆的测量装置,包括探头、驱动轮和承载架,其特征在于,所述探头包括电涡流探头,所述承载架包括滑轨和旋转环,所述滑轨的形状与所述旋转环相匹配;/n所述半导体晶圆安放在所述旋转环上,所述半导体晶圆与所述旋转环的相对位置被所述旋转环与所述半导体晶圆的边缘相接触的部分所限定,所述旋转环带动所述半导体晶圆在所述滑轨上转动且在转动过程中所述半导体晶圆和所述旋转环无相对滑动,所述旋转环的转动由所述驱动轮驱动,所述驱动轮紧贴所述旋转环的外侧设置并驱动所述旋转环转动,或者所述驱动轮通过传动带驱动所述旋转环转动;/n所述电涡流探头分为发射探头和接收探头,所述发射探头和所述接收探头在测量半导体晶圆时非接触的分设于所述半导体晶圆的正反两面,所述发射探头和所述接收探头平行于所述半导体晶圆所在的平面共同运动,所述发射探头和所述接收探头均垂直地指向所述半导体晶圆所在的平面且二者始终共线,以保证所述接收探头接收到所述发射探头产生的激励信号。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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