[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示装置

摘要

本发明提供一种阵列基板制备方法、阵列基板、显示装置，用于解决现有技术存在的阵列基板制备过程中使用的掩膜板数量多且制备成本高的问题。本发明提供的阵列基板的制备方法、阵列基板、显示装置，由于将刻蚀阻挡层采用钝化层的掩膜板制备，减少了阵列基板制备构成中使用的掩膜板，降低了制备成本。

主权项

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在衬底上通过构图工艺形成包括有源层的图形；在形成有源层的所述衬底上沉积刻蚀阻挡层；在所述刻蚀阻挡层上沉积第一导电层，通过构图工艺形成第一导电层图形；在形成第一导电层图形的所述衬底上形成钝化层，通过一次构图工艺形成钝化层图形和刻蚀阻挡层图形；所述钝化层图形和刻蚀阻挡层图形采用干法刻蚀形成；所述钝化层图形在与所述第一导电层图形的对应位置具有贯穿所述钝化层的第一开口；所述钝化层图形和所述刻蚀阻挡层图形在与所述有源层图形的对应位置具有贯穿所述钝化层和所述刻蚀阻挡层的第二开口和第三开口，所述第二开口位于所述第一开口和所述第三开口之间；在形成所述钝化层图形的所述衬底上沉积第二导电层，通过构图工艺形成第二导电层图形；所述第二导电层具有通过所述第一开口和所述第二开口将所述第一导电层与所述有源层电性连接的第一部分；所述第二导电层具有通过所述第三开口与所述有源层连接的第二部分；所述第一导电层和第二导电层的刻蚀采用湿法刻蚀。