[发明专利]三维半导体存储器结构及相应的方法与装置有效

专利信息
申请号: 201510001701.1 申请日: 2015-01-05
公开(公告)号: CN105826317B 公开(公告)日: 2019-04-23
发明(设计)人: 杨金成 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/10 分类号: H01L27/10;H01L23/528;H01L21/822;H01L21/768
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 曹玲柱
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供了一种3D半导体存储器中的LC模块的布局设计配置,其避免大的段差高度。此布局设计配置建立绝缘/导电层对,其中邻近的对在高度上的差异不超过两个绝缘/导电层对的厚度。
搜索关键词: 三维 半导体 存储器 结构 相应 方法 装置
【主权项】:
1.一种三维半导体存储器结构,其特征在于,包括:多个LC模块,该些模块包括:多个接触垫;及多个逐层开口部,使与该些接触垫连接,其中:该些LC模块被配置在多个层级上,各该层级是由一个对或多个对的导电材料及绝缘材料的交替层所形成,形成该些交替层的该些对为OP层对,其中在邻近层级的表面之间的一高度差异不超过两个该OP层对的厚度,且至少一对邻近的层级,它们的表面之间的高度差异为两个该OP层对的厚度。
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