[发明专利]形成具有非对称外形的鳍状物结构的装置和方法有效
| 申请号： | 201480083614.9 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN107004713B | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | W·拉赫马迪;M·V·梅茨;C·S·莫哈帕特拉;G·杜威;J·T·卡瓦列罗斯;A·S·默西;N·M·拉哈尔-乌拉比;T·加尼;G·A·格拉斯 | 申请（专利权）人： | 英特尔公司 |
| 主分类号： | H01L29/78 | 分类号： | H01L29/78;H01L21/336 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈松涛;王英 |
| 地址： | 美国加*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 实施例包括微电子器件，其包括：衬底，其包括凸起部分和非凸起部分，其中，电介质材料设置为与所述凸起部分相邻；外延子鳍状物结构，其设置在所述凸起部分上，其中，所述外延子鳍状物结构的底部部分包括非对称外形；以及设置在所述子鳍状物结构上的外延鳍状物器件结构。本文中描述了其它实施例。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 具有 对称 外形 鳍状物 结构 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种微电子器件结构，包括：衬底，其包括凸起部分和非凸起部分，其中，电介质材料设置为与所述凸起部分相邻，并且其中，所述凸起部分的顶表面包括所述凸起部分的材料的单侧(111)刻面；子鳍状物结构，其设置在所述凸起部分的所述顶表面上，其中，所述子鳍状物结构的底部部分包括非对称外形；鳍状物器件结构，其设置在所述子鳍状物结构上；栅极氧化物，其设置在所述鳍状物器件结构的一部分上；以及栅极材料，其设置在所述栅极氧化物上。
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