[发明专利]具有用于外延处理的均匀性调整透镜的基座支撑杆

摘要

本发明的实施方式大体涉及基座支撑杆及包括该基座支撑杆的处理腔室。基座支撑杆支撑基座于基座支撑杆上，该基座又在处理期间支撑基板。即使当旋转基座支撑杆时，基座支撑杆也能通过为射向基座和/或基板的高温计聚焦射束提供一致的路径而减小基座和/或基板的温度测量的变化。基座支撑杆还具有相对较低的热质量，这增加了处理腔室的升温及降温速率。在一些实施方式中，为了获得最佳的外延处理厚度均匀性，可在实心盘的顶部上可移除地放置定制的折射元件以在基座和/或基板各处重新分布二次热分布。

主权项

1.一种用于处理腔室的基座支撑杆，所述基座支撑杆包括：支撑杆；和支撑主体，所述支撑主体耦接至所述支撑杆，所述支撑主体包括：实心盘；多个底座，所述多个底座从所述实心盘向外延伸；至少三个支撑臂，所述至少三个支撑臂从所述多个底座中的一些底座延伸；和至少三个虚设臂，所述至少三个虚设臂从所述多个底座中的一些底座延伸。