[实用新型]用于基板处理腔室的工艺配件和处理腔室有效
| 申请号： | 201920784671.X | 申请日： | 2019-05-28 |
| 公开（公告）号： | CN210123716U | 公开（公告）日： | 2020-03-03 |
| 发明（设计）人： | Y·萨罗德维舍瓦纳斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/21 | 分类号： | H01J37/21;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了用于基板处理腔室的工艺配件和处理腔室。所述工艺配件包括边缘环、可调整调节环、以及致动机构。所述边缘环具有第一环部件，所述第一环部件与相对于所述第一环部件可移动的第二环部件相接，在所述第一环部件和所述第二环部件之间形成间隙。所述第二环部件的下表面包含上部对准耦合件，且所述可调整调节环的上表面包含下部对准耦合件。所述可调整调节环的所述下部对准耦合件被配置成与所述第二环部件的所述上部对准耦合件相配合，以形成界面。所述致动机构与所述可调整调节环的下表面相接。所述致动机构被配置为致动所述可调整调节环，使得所述第一环部件与所述第二环部件之间的间隙改变。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 工艺 配件 | ||
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- H·C·弗罗尔斯卡;B·蒂利 - FEI公司
- 2021-07-23 - 2022-01-25 - H01J37/21
- 本文公开了用于粒子束聚焦的设备和方法，适用于样本制备或测试环境，包括基于SEM的纳米探测平台。当粒子束入射到样本表面上时，载物台电流用作斑点大小的指示器。通过扫描或搜索工作距离控制的设置，使用具有最大（或最小）载物台电流的控制值来设置所述样本表面处的波束束腰。可替代地，可以使用反射电流的最小值（或最大值）。可以类似地调整消像散器控制以减少像散。控制设置的扫描可以与将所述波束扫掠过所述样本上的感兴趣区域同时进行。可以使用弯曲的扫掠图案。能量测量可用作电流测量的替代。本文公开了纳米探测工作流的应用。
- 一种用于离子束加工的修正装置-202121263891.1
- 池连花;黄成日;谢玉明 - 山东艾酷博纳米材料有限公司
- 2021-06-07 - 2021-11-23 - H01J37/21
- 本实用新型属于离子束加工设备技术领域，公开了一种用于离子束加工的修正装置，包括安装架，所述安装架的内部设置有修正板，所述修正板的内部开设有通槽，所述通槽的一侧设置有挡板，所述挡板的顶部安装有内螺纹安装块，所述内螺纹安装块的内部设置有定位螺栓，所述安装架的内壁开设有滑轨，所述修正板的一侧安装有滑块，所述修正板相背于滑块的一侧安装有安装块，本实用新型设置了挡板、内螺纹安装块以及滑槽，通过内螺纹安装块中的定位螺栓使得挡板能够跟随定位螺栓移动，同时通过内螺纹安装块表面的滑片在滑槽中稳定移动，这样能够方便工作人员调整挡板挡住通槽的位置来控制离子束的位置。
- 双束双焦带电粒子显微镜-202110331186.9
- A·亨斯特;Y·邓;H·科尔;A·穆罕默德-盖达里 - FEI公司
- 2021-03-29 - 2021-10-01 - H01J37/21
- 根据本公开的用于使用双束双焦带电粒子显微镜来研究样本的方法和系统包括向所述样本发射多个带电粒子，将所述多个带电粒子形成为第一带电粒子束和第二带电粒子束，以及修改所述第一带电粒子束和所述第二带电粒子束中的至少一束的聚焦特性。修改所述第一带电粒子束和所述第二带电粒子束中的至少一束的所述聚焦特性，使得所述第一带电粒子束和所述第二带电粒子束的对应焦平面不同。
- 专利分类
