[发明专利]制备半导体纳米材料的有机气相沉积装置及方法有效
申请号: | 201410279763.4 | 申请日: | 2014-06-20 |
公开(公告)号: | CN104073779B | 公开(公告)日: | 2017-01-04 |
发明(设计)人: | 王海;罗金龙;纪小林;邹涛隅 | 申请(专利权)人: | 昆明学院 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 刘贝 |
地址: | 650214 云南省*** | 国省代码: | 云南;53 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及半导体纳米材料领域,提供了一种制备半导体纳米材料的有机气相沉积装置及方法,包括:石英管,管式炉,以及气流控制设备,其中,所述管式炉包括炉腔,以及包裹在炉外壁的隔热材料层;所述石英管包括加热区和生长区,加热区位于所述管式炉内部,所述生长区位于管式炉加热区之外;所述石英管包括进气端,出气端,以及小孔通道区和引流通道区,载气引导所述石英管内高温升华的原料气体分子流动到所述石英管的生长区。本发明使得纳米材料的生长过程具有更强的调控作用,提高了纳米材料的制备效率,制备装置成本低廉,操作简单,无污染。 | ||
搜索关键词: | 制备 半导体 纳米 材料 有机 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种用于半导体纳米材料制备的石英管,其特征在于,所述石英管包括:加热区以及生长区;所述半导体纳米材料的制备原料放置于所述石英管的加热区内,所述制备原料在高温升华后,其升华的原料气体分子流动到所述生长区,生成纳米材料;所述石英管还包括小孔通道区域,所述小孔通道区域位于所述加热区,所述小孔通道区域包括多个小孔通道,所述升华的原料气体分子经过所述小孔通道,流动到所述石英管的生长区,所述小孔通道个数大于或等于1个。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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