[发明专利]一种半导体制造工艺中炉管机台运行的控制系统及方法

摘要

本发明涉及一种半导体制造工艺中炉管机台运行的控制系统及方法，所述方法包括步骤A：获取上游机台晶圆组的信息、炉管机台晶圆组的信息以及炉管机台信息；步骤B：根据步骤A中的所述信息计算所述上游机台晶圆组的炉管预批量处理值和所述炉管机台晶圆组的炉管预批量处理值；步骤C：根据所述预批量处理值，对所述上游机台和炉管机台进行排货和派货。本发明的优点在于：(1)设计者(Planner)和监控者(supervisor)可实时维护和监控机台以及Lots信息，保证数据的实时性和准确性。(2)上游的机台可以根据下游的炉管机台的实际需求，及时准确的生产，既保证了上游机台的利用率和产量，又满足了下游机台的需求。实现了整个上下游机台利用率的最大化。

主权项

1.一种半导体制造工艺中炉管机台运行的控制方法，包括：步骤A：获取上游机台晶圆组的信息、正在处理中的炉管机台晶圆组的信息和等待晶圆组的信息，以及炉管机台信息；步骤B：根据步骤A中的所述信息计算所述上游机台晶圆组的炉管预批量处理值和所述炉管机台晶圆组的炉管预批量处理值，所述步骤B包括：步骤B1：计算所述炉管机台剩余的生产时间；步骤B2：计算所述上游机台晶圆组中未来到达的晶圆组到达所述炉管机台的时间；步骤B3：计算所述炉管机台上的等待晶圆组在所述炉管机台的生产时间；步骤B4：根据步骤B1、步骤B2和步骤B3中计算得到的时间，计算所述等待晶圆组的炉管预批量处理值和所述未来到达晶圆组的炉管预批量处理值；在所述步骤B4中，当所述炉管机台处于等待状态时，对于所述炉管机台的等待晶圆组按照相同处理工艺和最大批处理量数值进行临时批处理，其中每个所述等待晶圆组得到一个临时批处理值，所述等待晶圆组的炉管预批量处理值和所述未来到达晶圆组的炉管预批量处理值的计算包括：若所述未来到达的晶圆组到达所述炉管机台的时间小于或者等于所述等待晶圆组在所述炉管机台的生产时间的一半，则所述炉管机台等待所述未来到达的晶圆组，所述未来到达的晶圆组到达所述炉管机台后，和所述等待晶圆组一起进行批量处理，所述临时批处理值作为所述等待晶圆组的炉管预批量处理值；若所述未来到达的晶圆组到达所述炉管机台的时间大于所述等待晶圆组在所述炉管机台的生产时间的一半，则该炉管机台不需要等待所述未来到达晶圆组，需立刻生产所述等待晶圆组，所述临时批处理值作为所述等待晶圆组的炉管预批量处理值，所述未来到达的晶圆组的炉管预批量处理值为空；步骤C：根据所述等待晶圆组的炉管预批量处理值和所述未来到达晶圆组的炉管预批量处理值，对上游机台和炉管机台进行排货和派货。