[发明专利]一种冗余图形的填充方法在审
| 申请号： | 201410106665.0 | 申请日： | 2014-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN103886150A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 陈权;于世瑞;郜彬 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种冗余图形的填充方法，通过填充冗余图形的软件，首先将在版图全部区域内填充冗余图形，然后选出冗余图形的禁止区域，再运用布尔运算把位于禁止区域内的冗余图形去掉，通过上述方法可以实现更大面积的冗余图形填充，从而提高整个版图的图形密度，进而提高晶圆在刻蚀后线宽均一性以及化学机械研磨后平坦度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冗余 图形 填充 方法 | ||
【主权项】：
一种冗余图形的填充方法，其特征在于，所述方法包括：S1：提供一设置有若干设计图形的版图；S2：将若干冗余图形以彼此之间相隔一定距离填充满整个所述版图；S3：在所述版图上设置冗余图形禁止区域；S4：在若干所述冗余图形中，去除位于所述冗余图形禁止区域内的部分，以得到一临时冗余图形；S5：去除小于最小规定尺寸的临时冗余图形，得到最终冗余图形；其中，所述冗余图形禁止区域包括所述设计图形的区域，距离所述设计图形一定距离之内的扩充区域以及工艺特殊区域。
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