[发明专利]一种冗余图形的填充方法在审
| 申请号： | 201410106665.0 | 申请日： | 2014-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN103886150A | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 陈权;于世瑞;郜彬 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 冗余 图形 填充 方法 | ||
1.一种冗余图形的填充方法，其特征在于，所述方法包括：
S1：提供一设置有若干设计图形的版图；
S2：将若干冗余图形以彼此之间相隔一定距离填充满整个所述版图；
S3：在所述版图上设置冗余图形禁止区域；
S4：在若干所述冗余图形中，去除位于所述冗余图形禁止区域内的部分，以得到一临时冗余图形；
S5：去除小于最小规定尺寸的临时冗余图形，得到最终冗余图形；
其中，所述冗余图形禁止区域包括所述设计图形的区域，距离所述设计图形一定距离之内的扩充区域以及工艺特殊区域。
2.如权利要求1所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，所述冗余图形为多边形。
3.如权利要求1所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，所述冗余图形禁止区域为多边形。
4.如权利要求1所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，通过一版图设计规则得出冗余图形的所述最小规定尺寸；
其中，所述版图设计规则规定了版图设计中的各种工艺要求。
5.如权利要求4所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，若干所述冗余图形的尺寸根据所述版图设计规则中规定的最大规定尺寸来设定。
6.如权利要求5所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，若干冗余图形之间的一定距离根据所述版图设计规则设定。
7.如权利要求3所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，所述扩充区域的位置以及尺寸均根据所述版图设计规则来设定。
8.如权利要求3所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，根据所述版图设计规则设定所述工艺特殊区域。
9.如权利要求1所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，在S4中，对所述冗余图形以及所述冗余图形禁止区域进行布尔运算，以去除位于所述冗余图形禁止区域内的冗余图形部分。
10.如权利要求1所述的一种冗余图形的填充方法，其特征在于，所述版图包括有源层、多晶硅层、栅层和金属层。
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